直写光刻设备和曝光控制方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411056139.8

申请日：

2024-08-02

公开(公告)号：

CN118884780A

公开(公告)日：

2024-11-01

发明(设计)人：

张敏戴晓霖武邵东

申请人：

合肥芯碁微电子装备股份有限公司

申请人地址：

230088 安徽省合肥市高新区长宁大道789号1号楼

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

北京景闻知识产权代理有限公司 11742

代理人：

李亚洲

法律状态：

公开

国省代码：

江苏省常州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-01	公开	公开
2024-11-19	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20240802
2025-09-16	授权	授权

共 50 条

[1]

直写光刻设备和曝光控制方法 [P].

张敏 ;

戴晓霖 ;

武邵东 .

中国专利 :CN118884780B ,2025-09-16

[2]

控制直写光刻机曝光的方法、装置和光刻机 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN111367147B ,2020-07-03

[3]

直写光刻系统和直写光刻方法 [P].

浦东林 ;

朱鹏飞 ;

朱鸣 ;

邵仁锦 ;

张瑾 ;

王冠楠 ;

陈林森 .

中国专利 :CN112987501B ,2021-06-18

[4]

直写式光刻机曝光控制方法及装置、介质和直写式光刻机 [P].

王超 ;

梅文辉 ;

赵美云 ;

邵德洋 .

中国专利 :CN119556532A ,2025-03-04

[5]

直写式光刻曝光装置 [P].

刘柱 ;

请求不公布姓名 ;

相入伟 ;

金侃 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN221827185U ,2024-10-11

[6]

光刻设备和曝光方法 [P].

P·J·克拉默 ;

R·吉利贾姆塞 ;

N·拉默斯 ;

D·M·斯洛特布姆 .

中国专利 :CN106462089B ,2017-02-22

[7]

直写式曝光设备及其控制方法 [P].

刘国藩 .

中国专利 :CN115509096A ,2022-12-23

[8]

直写式曝光设备及其控制方法 [P].

刘国藩 .

中国专利 :CN115509095B ,2025-04-25

[9]

直写式曝光设备及其控制方法 [P].

刘国藩 .

中国专利 :CN115509095A ,2022-12-23

[10]

直写光刻设备及其的分区曝光方法及装置 [P].

程建高 ;

董帅 ;

赵美云 ;

蔡健 .

中国专利 :CN114721228A ,2022-07-08

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