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控制直写光刻机曝光的方法、装置和光刻机
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010119271.4
申请日：
2020-02-26
公开(公告)号：
CN111367147B
公开(公告)日：
2020-07-03
发明(设计)人：
赵美云
申请人：
申请人地址：
230088 安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
北京景闻知识产权代理有限公司 11742
代理人：
卢春燕
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-07-28 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20200226 |
| 2022-04-01 | 授权 | 授权 |
| 2020-07-03 | 公开 | 公开 |