光刻设备和曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580030769.0

申请日：

2015-05-13

公开(公告)号：

CN106462089B

公开(公告)日：

2017-02-22

发明(设计)人：

P·J·克拉默 R·吉利贾姆塞 N·拉默斯 D·M·斯洛特布姆

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

王茂华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-03-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101708779024 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2015800307690 申请日:20150513
2018-05-29	授权	授权
2017-02-22	公开	公开

共 50 条

[1]

曝光装置和光刻设备 [P].

陈恩浩 .

中国专利 :CN120428522A ,2025-08-05

[2]

直写光刻设备和曝光控制方法 [P].

张敏 ;

戴晓霖 ;

武邵东 .

中国专利 :CN118884780A ,2024-11-01

[3]

直写光刻设备和曝光控制方法 [P].

张敏 ;

戴晓霖 ;

武邵东 .

中国专利 :CN118884780B ,2025-09-16

[4]

晶圆边缘曝光方法、装置和光刻设备 [P].

张弓玉帛 ;

杨慧 ;

张孟龙 ;

钭诗恩 ;

金港杰 ;

付涛 .

中国专利 :CN118981150A ,2024-11-19

[5]

用于光刻胶曝光的装置、设备、系统和方法以及光刻设备 [P].

朱慧娥 ;

曾志男 ;

鲁湛 ;

魏张帆 ;

王翔 ;

何建君 .

中国专利 :CN120578015A ,2025-09-02

[6]

一种光刻机曝光方法、光刻设备和存储介质 [P].

郑哲 .

中国专利 :CN119717399A ,2025-03-28

[7]

光罩检测装置、方法、曝光机和光刻设备 [P].

梁学玉 .

中国专利 :CN113671799A ,2021-11-19

[8]

一种曝光装置、光刻设备及曝光方法 [P].

周畅 ;

朱岳彬 ;

李莉 ;

杨玉杰 ;

彭水平 ;

葛黎黎 ;

沈逸豪 .

中国专利 :CN112147849B ,2020-12-29

[9]

一种步进光刻设备及光刻曝光方法 [P].

陈勇辉 ;

吴立伟 ;

张俊 .

中国专利 :CN102955368B ,2013-03-06

[10]

利用多次曝光和多种曝光类型的光刻设备和器件制造方法 [P].

K·Z·特罗斯特 ;

J·J·M·贝塞尔曼斯 ;

A·J·布利克 ;

J·S·格林奈奇 .

中国专利 :CN1987659A ,2007-06-27

← 1 2 3 4 5 →