一种步进光刻设备及光刻曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110241791.3

申请日：

2011-08-22

公开(公告)号：

CN102955368B

公开(公告)日：

2013-03-06

发明(设计)人：

陈勇辉吴立伟张俊

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人：

王光辉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-09-30	授权	授权
2013-03-06	公开	公开
2013-04-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101430522586 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011102417913 申请日:20110822
2017-12-01	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备（集团）股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号变更后:201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号

共 50 条

[1]

一种曝光装置、光刻设备及曝光方法 [P].

周畅 ;

朱岳彬 ;

李莉 ;

杨玉杰 ;

彭水平 ;

葛黎黎 ;

沈逸豪 .

中国专利 :CN112147849B ,2020-12-29

[2]

多载台光刻系统及曝光方法 [P].

郑乐平 .

中国专利 :CN105319857A ,2016-02-10

[3]

一种光刻设备垂向动态曝光方法及装置 [P].

施忞 ;

章磊 ;

夏志鹏 .

中国专利 :CN104062853A ,2014-09-24

[4]

光刻设备和曝光方法 [P].

P·J·克拉默 ;

R·吉利贾姆塞 ;

N·拉默斯 ;

D·M·斯洛特布姆 .

中国专利 :CN106462089B ,2017-02-22

[5]

一种光刻设备及光刻方法 [P].

吕帅 ;

徐顺达 ;

王冠楠 ;

朱鹏飞 ;

浦东林 .

中国专利 :CN113495432B ,2025-04-22

[6]

一种光刻设备及光刻方法 [P].

吕帅 ;

徐顺达 ;

王冠楠 ;

朱鹏飞 ;

浦东林 .

中国专利 :CN113495432A ,2021-10-12

[7]

光刻系统及其曝光补偿方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN112965344A ,2021-06-15

[8]

直写光刻设备和曝光控制方法 [P].

张敏 ;

戴晓霖 ;

武邵东 .

中国专利 :CN118884780A ,2024-11-01

[9]

直写光刻设备和曝光控制方法 [P].

张敏 ;

戴晓霖 ;

武邵东 .

中国专利 :CN118884780B ,2025-09-16

[10]

基于圆形掩模的步进扫描光刻机及其曝光方法 [P].

霍志军 ;

周金明 .

中国专利 :CN104076613B ,2014-10-01

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