一种光刻设备垂向动态曝光方法及装置

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专利类型
发明
申请号
CN201310090953.7
申请日
2013-03-21
公开(公告)号
CN104062853A
公开(公告)日
2014-09-24
发明(设计)人
施忞 章磊 夏志鹏
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
代理机构
北京连和连知识产权代理有限公司 11278
代理人
王光辉
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
光刻装置、光刻装置的垂向控制方法及曝光方法 [P]. 
陈丹 .
中国专利 :CN111123667B ,2020-05-08
[2]
一种步进光刻设备及光刻曝光方法 [P]. 
陈勇辉 ;
吴立伟 ;
张俊 .
中国专利 :CN102955368B ,2013-03-06
[3]
一种曝光装置、光刻设备及曝光方法 [P]. 
周畅 ;
朱岳彬 ;
李莉 ;
杨玉杰 ;
彭水平 ;
葛黎黎 ;
沈逸豪 .
中国专利 :CN112147849B ,2020-12-29
[4]
光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备 [P]. 
褚占占 ;
李煜芝 ;
赵晓伟 .
中国专利 :CN116047866B ,2025-09-16
[5]
一种边缘曝光装置、方法及光刻设备 [P]. 
田翠侠 ;
夏海 ;
杨思雨 ;
张建新 .
中国专利 :CN114578655A ,2022-06-03
[6]
一种边缘曝光装置、方法及光刻设备 [P]. 
田翠侠 ;
夏海 ;
杨思雨 ;
张建新 .
中国专利 :CN114578655B ,2024-04-26
[7]
垂向缩放误差的校准装置及校准方法、光刻设备 [P]. 
张静静 .
中国专利 :CN114690579A ,2022-07-01
[8]
垂向缩放误差的校准装置及校准方法、光刻设备 [P]. 
张静静 .
中国专利 :CN114690579B ,2025-07-08
[9]
垂向测量系统及曝光装置 [P]. 
程于水 ;
毛静超 ;
孙建超 .
中国专利 :CN113433800B ,2021-09-24
[10]
一种垂向运动机构及光刻设备 [P]. 
陈淮阳 ;
姜杰 ;
郑教增 ;
吴芬 ;
庞飞 ;
郝凤龙 .
中国专利 :CN110858059A ,2020-03-03