利用多次曝光和多种曝光类型的光刻设备和器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610169373.7

申请日：

2006-12-19

公开(公告)号：

CN1987659A

公开(公告)日：

2007-06-27

发明(设计)人：

K·Z·特罗斯特 J·J·M·贝塞尔曼斯 A·J·布利克 J·S·格林奈奇

申请人：

申请人地址：

荷兰费尔德霍芬

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

王小衡;张志醒

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-06-27	公开	公开
2010-12-29	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101058193684 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2006101693737 公开日:20070627
2008-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

光刻设备和曝光方法 [P].

P·J·克拉默 ;

R·吉利贾姆塞 ;

N·拉默斯 ;

D·M·斯洛特布姆 .

中国专利 :CN106462089B ,2017-02-22

[2]

曝光装置和光刻设备 [P].

陈恩浩 .

中国专利 :CN120428522A ,2025-08-05

[3]

直写光刻设备和曝光控制方法 [P].

张敏 ;

戴晓霖 ;

武邵东 .

中国专利 :CN118884780A ,2024-11-01

[4]

直写光刻设备和曝光控制方法 [P].

张敏 ;

戴晓霖 ;

武邵东 .

中国专利 :CN118884780B ,2025-09-16

[5]

一种曝光装置、光刻设备及曝光方法 [P].

周畅 ;

朱岳彬 ;

李莉 ;

杨玉杰 ;

彭水平 ;

葛黎黎 ;

沈逸豪 .

中国专利 :CN112147849B ,2020-12-29

[6]

一种用于光刻设备的曝光装置与曝光方法 [P].

许琦欣 ;

李玉龙 ;

王天寅 .

中国专利 :CN105301912A ,2016-02-03

[7]

晶圆边缘曝光方法、装置和光刻设备 [P].

张弓玉帛 ;

杨慧 ;

张孟龙 ;

钭诗恩 ;

金港杰 ;

付涛 .

中国专利 :CN118981150A ,2024-11-19

[8]

用于调节光刻曝光系统的光源的方法以及用于光刻设备的曝光组件 [P].

保罗·凯撒 .

中国专利 :CN106054536A ,2016-10-26

[9]

用于光刻胶曝光的装置、设备、系统和方法以及光刻设备 [P].

朱慧娥 ;

曾志男 ;

鲁湛 ;

魏张帆 ;

王翔 ;

何建君 .

中国专利 :CN120578015A ,2025-09-02

[10]

光刻设备，器件制造方法和由此制造的器件 [P].

S·A·J·霍尔 ;

E·J·布伊斯 ;

H·K·范德肖特 ;

P·维雷格德瓦特 .

中国专利 :CN100480857C ,2004-09-22

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