用于调节光刻曝光系统的光源的方法以及用于光刻设备的曝光组件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610088033.5

申请日：

2016-02-16

公开(公告)号：

CN106054536A

公开(公告)日：

2016-10-26

发明(设计)人：

保罗·凯撒

申请人：

申请人地址：

德国加尔兴

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

杨生平;钟锦舜

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-10-26	公开	公开
2021-03-02	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F 7/20 申请公布日:20161026
2018-03-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20160216

共 50 条

[1]

用于光刻曝光系统的光源布置和光刻曝光系统 [P].

保罗·凯撒 .

中国专利 :CN107621755A ,2018-01-23

[2]

光刻的曝光方法及曝光系统 [P].

张飞 .

中国专利 :CN101359181A ,2009-02-04

[3]

光刻曝光系统 [P].

刘国淦 .

中国专利 :CN104698768A ,2015-06-10

[4]

光刻曝光系统 [P].

陈鑫封 ;

张汉龙 ;

陈立锐 ;

刘柏村 .

中国专利 :CN109814340A ,2019-05-28

[5]

用于光刻设备的双汞灯拼接曝光系统 [P].

陈璐玲 ;

张祥翔 .

中国专利 :CN103543609A ,2014-01-29

[6]

光刻曝光系统和光刻刻蚀方法 [P].

范晓 ;

王函 ;

陈广龙 .

中国专利 :CN112269303A ,2021-01-26

[7]

用于光刻胶曝光的装置、设备、系统和方法以及光刻设备 [P].

朱慧娥 ;

曾志男 ;

鲁湛 ;

魏张帆 ;

王翔 ;

何建君 .

中国专利 :CN120578015A ,2025-09-02

[8]

一种用于半导体光刻的曝光系统与曝光方法 [P].

葛亮 ;

杨志勇 .

中国专利 :CN106933049A ,2017-07-07

[9]

光学组件、用于半导体光刻的投射曝光系统及方法 [P].

T·波拉克 .

德国专利 :CN119487448A ,2025-02-18

[10]

用于光刻设备的曝光补偿方法及系统 [P].

李玉华 ;

徐新 ;

吴长明 ;

姚振海 ;

葛斌 ;

金乐群 ;

高中原 .

中国专利 :CN112051712A ,2020-12-08

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