光刻曝光系统和光刻刻蚀方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011189146.7

申请日：

2020-10-30

公开(公告)号：

CN112269303A

公开(公告)日：

2021-01-26

发明(设计)人：

范晓王函陈广龙

申请人：

申请人地址：

214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027 H01L21033 G03F180

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司 31211

代理人：

戴广志

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-02-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20201030
2021-01-26	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻曝光方法 [P].

王壮 ;

宋振伟 ;

张其学 ;

樊航 ;

王雷 .

中国专利 :CN119200339A ,2024-12-27

[2]

光刻曝光系统 [P].

刘国淦 .

中国专利 :CN104698768A ,2015-06-10

[3]

光刻曝光系统 [P].

陈鑫封 ;

张汉龙 ;

陈立锐 ;

刘柏村 .

中国专利 :CN109814340A ,2019-05-28

[4]

光刻蚀方法、光罩组合及曝光系统 [P].

郑文达 .

中国专利 :CN102608860A ,2012-07-25

[5]

用于光刻曝光系统的光源布置和光刻曝光系统 [P].

保罗·凯撒 .

中国专利 :CN107621755A ,2018-01-23

[6]

光刻的曝光方法及曝光系统 [P].

张飞 .

中国专利 :CN101359181A ,2009-02-04

[7]

一种曝光系统、曝光方法和光刻机 [P].

郭银章 .

中国专利 :CN110568727B ,2019-12-13

[8]

光刻机曝光系统 [P].

胡钰 .

中国专利 :CN201194068Y ,2009-02-11

[9]

光刻机曝光系统 [P].

郭党委 ;

胡雅文 ;

吴明仓 .

中国专利 :CN215895217U ,2022-02-22

[10]

光刻机曝光系统 [P].

胡钰 .

中国专利 :CN101231475A ,2008-07-30

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