直写光刻系统和直写光刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911303595.7

申请日：

2019-12-17

公开(公告)号：

CN112987501B

公开(公告)日：

2021-06-18

发明(设计)人：

浦东林朱鹏飞朱鸣邵仁锦张瑾王冠楠陈林森

申请人：

申请人地址：

215123 江苏省苏州市工业园区新昌路68号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海波拓知识产权代理有限公司 31264

代理人：

蔡光仟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-06-18	公开	公开
2021-10-08	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20191217
2023-01-24	授权	授权

共 50 条

[1]

直写光刻系统 [P].

柯华恒 ;

黄燕燕 ;

王笑冰 ;

李洪江 ;

周海滨 .

中国专利 :CN114779586A ,2022-07-22

[2]

直写光刻装置 [P].

刘文海 ;

刘军 ;

胡亦宁 ;

杨丹宁 .

中国专利 :CN201083960Y ,2008-07-09

[3]

直写光刻装置 [P].

何少锋 ;

靳莉 .

中国专利 :CN101650535A ,2010-02-17

[4]

无掩模直写光刻系统 [P].

胡敬佩 ;

张冲 ;

朱玲琳 ;

曾爱军 ;

黄惠杰 .

中国专利 :CN110441991A ,2019-11-12

[5]

直写光刻设备和曝光控制方法 [P].

张敏 ;

戴晓霖 ;

武邵东 .

中国专利 :CN118884780A ,2024-11-01

[6]

直写光刻设备和曝光控制方法 [P].

张敏 ;

戴晓霖 ;

武邵东 .

中国专利 :CN118884780B ,2025-09-16

[7]

一种直写光刻机的光刻系统 [P].

张柯 ;

张雷 ;

李伟成 .

中国专利 :CN112327578A ,2021-02-05

[8]

一种直写式光刻系统 [P].

刘栋 ;

胡传武 ;

张雷 .

中国专利 :CN116224717B ,2025-09-12

[9]

一种激光直写系统与光刻方法 [P].

朱鹏飞 ;

浦东林 ;

胡进 ;

陈林森 ;

朱鸣 ;

魏国军 .

中国专利 :CN103744271B ,2014-04-23

[10]

一种直写光刻系统、方法及装置 [P].

张振国 .

中国专利 :CN121165401A ,2025-12-19

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