直写光刻系统

被引：0

申请号：

CN202210340642.0

申请日：

2022-04-02

公开(公告)号：

CN114779586A

公开(公告)日：

2022-07-22

发明(设计)人：

柯华恒黄燕燕王笑冰李洪江周海滨

申请人：

申请人地址：

518132 广东省深圳市光明新区田寮社区聚汇工业园1栋

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316

代理人：

刘建伟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-22	公开	公开
2022-08-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20220402

共 50 条

[1]

一种直写曝光光刻系统 [P].

柯华恒 ;

黄燕燕 ;

王笑冰 ;

李洪江 ;

梁德文 .

中国专利 :CN114779587A ,2022-07-22

[2]

直写光刻系统和直写光刻方法 [P].

浦东林 ;

朱鹏飞 ;

朱鸣 ;

邵仁锦 ;

张瑾 ;

王冠楠 ;

陈林森 .

中国专利 :CN112987501B ,2021-06-18

[3]

控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN113934115A ,2022-01-14

[4]

直写式曝光系统及光刻机 [P].

陈超 ;

陈锡媛 ;

蔡自立 ;

零萍 .

中国专利 :CN117348351A ,2024-01-05

[5]

无掩模直写光刻系统 [P].

胡敬佩 ;

张冲 ;

朱玲琳 ;

曾爱军 ;

黄惠杰 .

中国专利 :CN110441991A ,2019-11-12

[6]

光刻系统 [P].

奥山隆志 ;

小林义则 .

中国专利 :CN101364050A ,2009-02-11

[7]

光刻系统 [P].

胡煜塨 .

中国专利 :CN106094448A ,2016-11-09

[8]

光刻系统 [P].

胡煜塨 .

中国专利 :CN205942249U ,2017-02-08

[9]

直写式光刻系统中采用灰度方式提高曝光图形质量的方法 [P].

卢云君 ;

李显杰 ;

刘文海 .

中国专利 :CN102621816B ,2012-08-01

[10]

基于多模光纤阵列输入光场调制的超分辨直写式光刻系统 [P].

匡翠方 ;

罗昊 ;

李海峰 ;

刘旭 ;

温积森 ;

孙秋媛 .

中国专利 :CN113568279A ,2021-10-29

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