无掩模直写光刻系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910597946.3

申请日：

2019-07-04

公开(公告)号：

CN110441991A

公开(公告)日：

2019-11-12

发明(设计)人：

胡敬佩张冲朱玲琳曾爱军黄惠杰

申请人：

申请人地址：

201800 上海市嘉定区清河路390号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317

代理人：

张宁展

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-11-12	公开	公开
2019-12-06	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20190704
2021-10-22	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F 7/20 申请公布日:20191112

共 50 条

[1]

无掩模等离激元直写光刻系统 [P].

王亮 ;

许凯 ;

郭松坡 .

中国专利 :CN112558429A ,2021-03-26

[2]

直写光刻系统和直写光刻方法 [P].

浦东林 ;

朱鹏飞 ;

朱鸣 ;

邵仁锦 ;

张瑾 ;

王冠楠 ;

陈林森 .

中国专利 :CN112987501B ,2021-06-18

[3]

直写光刻系统 [P].

柯华恒 ;

黄燕燕 ;

王笑冰 ;

李洪江 ;

周海滨 .

中国专利 :CN114779586A ,2022-07-22

[4]

光刻掩模和包括所述光刻掩模的光刻系统 [P].

R·博德里 .

加拿大专利 :CN117651909A ,2024-03-05

[5]

用于无掩模光刻的多色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

托马斯·L·拉伊迪 ;

约瑟夫·R·约翰逊 .

美国专利 :CN114556220B ,2024-07-02

[6]

用于无掩模光刻的多色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

托马斯·L·拉伊迪 ;

约瑟夫·R·约翰逊 .

中国专利 :CN114556220A ,2022-05-27

[7]

一种直写光刻机的光刻系统 [P].

张柯 ;

张雷 ;

李伟成 .

中国专利 :CN112327578A ,2021-02-05

[8]

基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统 [P].

蓝鼎 ;

吴奎 ;

魏同波 ;

王育人 .

中国专利 :CN103217874B ,2013-07-24

[9]

一种基于光子筛的无掩模直写EUV光刻装置与方法 [P].

匡翠方 ;

柏凌 ;

刘旭 ;

徐月暑 ;

曹雯 ;

陶思玮 ;

田宗翰 .

中国专利 :CN117055308B ,2024-01-30

[10]

光刻机掩模的优化方法 [P].

王磊 ;

王向朝 ;

李思坤 ;

杨朝兴 .

中国专利 :CN105573066A ,2016-05-11

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