光刻机掩模的优化方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610077507.6

申请日：

2016-02-03

公开(公告)号：

CN105573066A

公开(公告)日：

2016-05-11

发明(设计)人：

王磊王向朝李思坤杨朝兴

申请人：

申请人地址：

201800 上海市嘉定区上海市800－211邮政信箱

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海新天专利代理有限公司 31213

代理人：

张泽纯;张宁展

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-06-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101663891145 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2016100775076 申请日:20160203
2017-12-12	授权	授权
2016-05-11	公开	公开
2018-07-13	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20180625 变更事项:专利权人变更前权利人:中国科学院上海光学精密机械研究所变更后权利人:深圳晶源信息技术有限公司变更事项:地址变更前权利人:201800 上海市嘉定区上海市800－211邮政信箱变更后权利人:518045 广东省深圳市福田区福保街道红棉道英达利科技数码园C座301F

共 50 条

[1]

一种光刻机光源的优化方法 [P].

王磊 ;

王向朝 ;

李思坤 ;

闫观勇 ;

杨朝兴 .

中国专利 :CN104155852B ,2014-11-19

[2]

光刻机光源与掩模的联合优化方法 [P].

李兆泽 ;

李思坤 ;

王向朝 .

中国专利 :CN103926802A ,2014-07-16

[3]

光刻机测试掩模版 [P].

王俊峰 .

中国专利 :CN220691253U ,2024-03-29

[4]

一种用于光刻机的光源掩模优化方法 [P].

闫观勇 ;

李思坤 ;

王向朝 .

中国专利 :CN104714372A ,2015-06-17

[5]

光刻掩模版、光刻污染物的处理方法、设备及光刻机 [P].

王依 ;

刘天棋 ;

徐月暑 ;

高金铭 ;

包宜骏 ;

匡翠方 .

中国专利 :CN119065198A ,2024-12-03

[6]

掩模版及其制备方法、光刻机 [P].

郑海昌 ;

吴隆武 ;

王晓龙 .

中国专利 :CN112612177A ,2021-04-06

[7]

掩模版及其制备方法、光刻机 [P].

郑海昌 ;

吴隆武 ;

王晓龙 .

中国专利 :CN112612177B ,2024-01-23

[8]

光刻机多参数联合优化方法 [P].

李思坤 ;

茅言杰 ;

王向朝 .

中国专利 :CN110554580A ,2019-12-10

[9]

掩模版移动装置、光刻机及光刻方法 [P].

丁功明 .

中国专利 :CN110147032A ,2019-08-20

[10]

光刻机中掩模版的上版方法 [P].

郑椰琴 ;

齐芊枫 .

中国专利 :CN102156393B ,2011-08-17

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