光刻掩模版、光刻污染物的处理方法、设备及光刻机

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411569858.X

申请日：

2024-11-06

公开(公告)号：

CN119065198A

公开(公告)日：

2024-12-03

发明(设计)人：

王依刘天棋徐月暑高金铭包宜骏匡翠方

申请人：

浙江大学杭州国际科创中心

申请人地址：

310000 浙江省杭州市萧山区建设三路733号

IPC主分类号：

G03F1/82

IPC分类号：

G03F7/20

代理机构：

杭州五洲普华专利代理事务所(特殊普通合伙) 33260

代理人：

姚宇吉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

浙江省杭州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-20	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/82申请日:20241106
2025-05-30	授权	授权
2024-12-03	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻污染物的处理方法、设备及光刻机 [P].

王依 ;

刘天棋 ;

徐月暑 ;

高金铭 ;

包宜骏 ;

匡翠方 .

中国专利 :CN119065198B ,2025-05-30

[2]

光刻胶曝光污染物的处理方法、处理设备及光刻机 [P].

王依 ;

高金铭 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN117555209A ,2024-02-13

[3]

光刻胶曝光污染物的处理方法、处理设备及光刻机 [P].

王依 ;

高金铭 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN117555209B ,2025-05-02

[4]

光刻机测试掩模版 [P].

王俊峰 .

中国专利 :CN220691253U ,2024-03-29

[5]

掩模版移动装置、光刻机及光刻方法 [P].

丁功明 .

中国专利 :CN110147032A ,2019-08-20

[6]

光刻机及光刻机污染控制方法 [P].

王魁波 ;

吴晓斌 ;

罗艳 ;

谢婉露 .

中国专利 :CN119781255A ,2025-04-08

[7]

掩模版及其制备方法、光刻机 [P].

郑海昌 ;

吴隆武 ;

王晓龙 .

中国专利 :CN112612177A ,2021-04-06

[8]

掩模版及其制备方法、光刻机 [P].

郑海昌 ;

吴隆武 ;

王晓龙 .

中国专利 :CN112612177B ,2024-01-23

[9]

光刻方法及光刻机 [P].

李海峰 ;

赵志豪 ;

沈俊明 ;

古哲安 ;

吴建宏 .

中国专利 :CN120949523B ,2025-12-16

[10]

一种掩模版及光刻机 [P].

胡健 ;

徐阳 ;

周世均 ;

王晓龙 ;

郑海昌 ;

陈力钧 .

中国专利 :CN114326291A ,2022-04-12

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