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光刻胶曝光污染物的处理方法、处理设备及光刻机
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202311807633.9
申请日：
2023-12-26
公开(公告)号：
CN117555209B
公开(公告)日：
2025-05-02
发明(设计)人：
王依
高金铭
刘天棋
申请人：
浙江大学杭州国际科创中心
申请人地址：
310000 浙江省杭州市萧山区建设三路733号
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
代理机构：
杭州五洲普华专利代理事务所(特殊普通合伙) 33260
代理人：
姚宇吉
法律状态：
授权
国省代码：
浙江省
杭州市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-05-02 | 授权 | 授权 |
| 2024-03-01 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20231226 |
| 2024-02-13 | 公开 | 公开 |