光刻胶处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711323254.7

申请日：

2017-12-12

公开(公告)号：

CN108107673A

公开(公告)日：

2018-06-01

发明(设计)人：

不公告发明人

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市宝安区福永街道和平社区骏丰工业区A3栋一楼

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

G03F716 G03F720

代理机构：

深圳市兰锋知识产权代理事务所(普通合伙) 44419

代理人：

曹明兰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-01	公开	公开
2021-11-02	发明专利申请公布后的撤回	发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):G03F 7/00 申请公布日:20180601
2018-06-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20171212

共 50 条

[1]

光刻胶剥离方法 [P].

孟祥国 ;

陆连 .

中国专利 :CN110854016A ,2020-02-28

[2]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[3]

光刻胶及光刻方法 [P].

袁华 ;

黄永发 ;

杨尚勇 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110501873A ,2019-11-26

[4]

光刻胶和光刻胶图形的优化方法 [P].

林益世 ;

黄宜斌 .

中国专利 :CN102262357A ,2011-11-30

[5]

光刻胶回吸装置、光刻胶涂布设备及光刻胶涂布方法 [P].

金在植 ;

张成根 ;

林锺吉 ;

贺晓彬 ;

杨涛 ;

李俊峰 ;

王文武 .

中国专利 :CN114054287A ,2022-02-18

[6]

光刻胶涂布方法 [P].

林锺吉 ;

金在植 ;

张成根 ;

金成昱 ;

梁贤石 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

杨涛 ;

李俊峰 ;

王文武 .

中国专利 :CN114967346B ,2025-05-16

[7]

光刻胶显影方法 [P].

刘希仕 ;

王绪根 ;

朱联合 ;

姚振海 .

中国专利 :CN118189552A ,2024-06-14

[8]

光刻胶涂布方法 [P].

栾会倩 ;

吴长明 ;

姚振海 .

中国专利 :CN113204172A ,2021-08-03

[9]

光刻胶去除方法 [P].

萧忠仁 ;

陈雅萍 ;

林建宏 ;

刘文斌 ;

陈志文 .

中国专利 :CN110716399A ,2020-01-21

[10]

光刻胶的硅化方法及形成光刻胶掩模图形的方法 [P].

崔彰日 ;

李冬 .

中国专利 :CN101458460A ,2009-06-17

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