光刻胶和光刻胶图形的优化方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010192857.X

申请日：

2010-05-27

公开(公告)号：

CN102262357A

公开(公告)日：

2011-11-30

发明(设计)人：

林益世黄宜斌

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

G03F7004

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

骆苏华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-11-30	公开	公开
2012-01-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101169311488 IPC(主分类):G03F 7/004 专利申请号:201010192857X 申请日:20100527
2013-04-03	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101556594852 IPC(主分类):G03F 7/004 专利申请号:201010192857X 申请公布日:20111130

共 50 条

[1]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[2]

光刻胶剥离方法 [P].

孟祥国 ;

陆连 .

中国专利 :CN110854016A ,2020-02-28

[3]

饶夙缔 ;

陈孝贤 .

中国专利 :CN110174819B ,2019-08-27

[4]

优化光刻胶厚度的方法 [P].

蔡航 .

中国专利 :CN119861534A ,2025-04-22

[5]

光刻胶图案修整方法 [P].

C-B·徐 .

中国专利 :CN103258720B ,2016-05-18

[6]

光刻胶和方法 [P].

吴振豪 ;

赖韦翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN105093826B ,2020-01-14

[7]

光刻胶图案的修整方法 [P].

C-B·徐 .

中国专利 :CN103186038B ,2013-07-03

[8]

光刻胶的硅化方法及形成光刻胶掩模图形的方法 [P].

崔彰日 ;

李冬 .

中国专利 :CN101458460A ,2009-06-17

[9]

光刻胶供应装置和光刻胶供应系统 [P].

徐阳 ;

余坚 ;

纪开勋 ;

杜龙 ;

李晨 .

中国专利 :CN217767184U ,2022-11-08

[10]

光刻胶除去装置和光刻胶除去方法 [P].

远藤民夫 ;

佐藤淳 ;

天野泰彦 ;

田村哲司 .

中国专利 :CN1653596A ,2005-08-10

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