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光刻胶图案修整方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201210599256.X
申请日
:
2012-12-31
公开(公告)号
:
CN103258720B
公开(公告)日
:
2016-05-18
发明(设计)人
:
C-B·徐
申请人
:
申请人地址
:
美国马萨诸塞州
IPC主分类号
:
H01L21033
IPC分类号
:
G03F700
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
:
陈哲锋
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-05-18
授权
授权
2013-09-18
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101520128972 IPC(主分类):H01L 21/033 专利申请号:201210599256X 申请日:20121231
共 50 条
[1]
光刻胶图案的修整方法
[P].
C-B·徐
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
C-B·徐
.
中国专利
:CN103186038B
,2013-07-03
[2]
光刻胶图案修剪方法
[P].
G·珀勒斯
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0
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G·珀勒斯
;
C-B·徐
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C-B·徐
;
K·劳维尔
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K·劳维尔
.
中国专利
:CN103913946A
,2014-07-09
[3]
光刻胶和光刻胶图形的优化方法
[P].
林益世
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林益世
;
黄宜斌
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0
黄宜斌
.
中国专利
:CN102262357A
,2011-11-30
[4]
光刻胶修整方法
[P].
唐果
论文数:
0
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0
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0
唐果
.
中国专利
:CN100444025C
,2005-03-02
[5]
利用激光的光刻胶图案修整方法
[P].
朴在雄
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0
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朴在雄
;
朴勋
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朴勋
;
金甫谦
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金甫谦
;
卢俊亨
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卢俊亨
;
全在赫
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全在赫
;
金仙株
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金仙株
.
中国专利
:CN113207285A
,2021-08-03
[6]
光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法
[P].
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机构:
徐宏
;
论文数:
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机构:
何向明
;
刘天棋
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0
机构:
清华大学
清华大学
刘天棋
.
中国专利
:CN115903376B
,2025-01-14
[7]
光刻胶图案增厚材料、包含它的光刻胶图案及其应用
[P].
小泽美和
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小泽美和
;
野崎耕司
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野崎耕司
;
並木崇久
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並木崇久
;
今纯一
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今纯一
.
中国专利
:CN1477447A
,2004-02-25
[8]
光刻胶图案的制造方法
[P].
朱联合
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0
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
朱联合
;
刘丁
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
刘丁
;
王绪根
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
王绪根
;
姚振海
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机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
姚振海
.
中国专利
:CN118466121A
,2024-08-09
[9]
形成光刻胶图案的方法
[P].
汪钉崇
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0
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汪钉崇
;
蓝受龙
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蓝受龙
.
中国专利
:CN101140421B
,2008-03-12
[10]
形成光刻胶图案的方法
[P].
C·J·史密斯
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C·J·史密斯
;
S·M·休斯
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S·M·休斯
;
C·M·J·霍克
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C·M·J·霍克
;
A·M·克罗尔
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A·M·克罗尔
;
A·G·纳吉
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A·G·纳吉
;
P·M·瓦恩巴杰
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P·M·瓦恩巴杰
.
中国专利
:CN100468642C
,2007-09-26
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