形成光刻胶图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480044253.3

申请日：

2004-11-30

公开(公告)号：

CN100468642C

公开(公告)日：

2007-09-26

发明(设计)人：

C·J·史密斯 S·M·休斯 C·M·J·霍克 A·M·克罗尔 A·G·纳吉 P·M·瓦恩巴杰

申请人：

申请人地址：

美国得克萨斯

IPC主分类号：

H01L21302

IPC分类号：

H01L213213

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

邓毅

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-11-21	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-03-11	授权	授权
2007-09-26	公开	公开
2017-11-17	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/302 变更事项:专利权人变更前:飞思卡尔半导体公司变更后:恩智浦美国有限公司变更事项:地址变更前:美国得克萨斯变更后:美国得克萨斯
2019-11-22	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/302 申请日:20041130 授权公告日:20090311 终止日期:20181130

共 50 条

[1]

形成光刻胶图案的方法 [P].

汪钉崇 ;

蓝受龙 .

中国专利 :CN101140421B ,2008-03-12

[2]

形成光刻胶图案的方法 [P].

苏萌 ;

杨明 ;

宋延林 .

中国专利 :CN114815500A ,2022-07-29

[3]

形成光刻胶图案的方法 [P].

朴云峰 ;

朴春培 .

中国专利 :CN101435992B ,2009-05-20

[4]

光刻胶及形成光刻图案的方法 [P].

钱晓春 ;

胡春青 ;

马丽君 .

中国专利 :CN111061126A ,2020-04-24

[5]

耐热正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方法 [P].

何珂 ;

戈士勇 .

中国专利 :CN120762253A ,2025-10-10

[6]

光刻胶图案的形成方法 [P].

訾安仁 ;

郑雅如 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN109782540A ,2019-05-21

[7]

负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN112731764A ,2021-04-30

[8]

显影完全正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方法 [P].

何珂 ;

戈士勇 .

中国专利 :CN118192170A ,2024-06-14

[9]

光刻胶图案的形成方法和光刻胶层合体 [P].

山崎晃义 ;

本池直人 ;

川名大助 ;

佐藤和史 .

中国专利 :CN1424626A ,2003-06-18

[10]

光刻胶图案的制造方法 [P].

朱联合 ;

刘丁 ;

王绪根 ;

姚振海 .

中国专利 :CN118466121A ,2024-08-09

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