光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110987312.6

申请日：

2021-08-26

公开(公告)号：

CN115903376B

公开(公告)日：

2025-01-14

发明(设计)人：

徐宏何向明刘天棋

申请人：

清华大学

申请人地址：

100084 北京市海淀区清华园

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/00

代理机构：

北京华进京联知识产权代理有限公司 11606

代理人：

信建

法律状态：

授权

国省代码：

北京市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-01-14	授权	授权

共 50 条

[1]

饶夙缔 ;

陈孝贤 .

中国专利 :CN110174819B ,2019-08-27

[2]

一种光刻胶组合物及光刻胶图案化方法 [P].

李弋舟 ;

江启明 ;

邓辉 ;

李铁峰 .

中国专利 :CN118466115A ,2024-08-09

[3]

正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P].

羽田英夫 ;

藤村悟史 ;

岩下淳 .

中国专利 :CN1276304C ,2005-02-09

[4]

正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P].

岩井武 ;

久保田尚孝 ;

藤村悟史 ;

羽田英夫 .

中国专利 :CN1310091C ,2005-03-23

[5]

负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN112731764A ,2021-04-30

[6]

光刻胶及光刻方法 [P].

袁华 ;

黄永发 ;

杨尚勇 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110501873A ,2019-11-26

[7]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[8]

光刻胶去除方法以及光刻胶去除系统 [P].

赵仲平 ;

张文龙 ;

戴茂春 ;

淮赛男 ;

周宇 .

中国专利 :CN113721430B ,2021-11-30

[9]

正型光刻胶组合物及形成光刻胶图案的方法 [P].

增田靖男 ;

奥井俊树 .

中国专利 :CN1823108A ,2006-08-23

[10]

光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法 [P].

朴廷敏 ;

郑斗喜 ;

李羲国 ;

尹赫敏 ;

丘冀赫 .

中国专利 :CN101281369A ,2008-10-08

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