正型光刻胶组合物及形成光刻胶图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480019981.9

申请日：

2004-07-13

公开(公告)号：

CN1823108A

公开(公告)日：

2006-08-23

发明(设计)人：

增田靖男奥井俊树

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

C08G1400

IPC分类号：

G03F7023

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

程金山

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-10-18	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-08-23	公开	公开
2011-04-13	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101062753462 IPC(主分类):C08G 14/00 专利号:ZL2004800199819 申请日:20040713 授权公告日:20080618 终止日期:20090813
2008-06-18	授权	授权

共 50 条

[1]

正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P].

增田靖男 ;

奥井俊树 .

中国专利 :CN1849559B ,2006-10-18

[2]

正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P].

羽田英夫 ;

藤村悟史 ;

岩下淳 .

中国专利 :CN1276304C ,2005-02-09

[3]

正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P].

岩井武 ;

久保田尚孝 ;

藤村悟史 ;

羽田英夫 .

中国专利 :CN1310091C ,2005-03-23

[4]

正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法 [P].

新田和行 ;

大久保和喜 ;

嶋谷聪 .

中国专利 :CN1591185A ,2005-03-09

[5]

光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法 [P].

朴廷敏 ;

郑斗喜 ;

李羲国 ;

尹赫敏 ;

丘冀赫 .

中国专利 :CN101281369A ,2008-10-08

[6]

光刻胶正胶组合物 [P].

上谷保则 ;

森马洋 ;

高田佳幸 .

中国专利 :CN1219238C ,1999-12-08

[7]

一种光刻胶组合物以及形成光刻胶图案的方法 [P].

汤红英 ;

吴世泰 ;

徐普 .

中国专利 :CN120540005A ,2025-08-26

[8]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

[9]

负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN112731764A ,2021-04-30

[10]

浸液曝光用正型光刻胶组成物及光刻胶图案的形成方法 [P].

石冢启太 ;

远藤浩太郎 .

中国专利 :CN1930523A ,2007-03-14

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