浸液曝光用正型光刻胶组成物及光刻胶图案的形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580006991.3

申请日：

2005-03-07

公开(公告)号：

CN1930523A

公开(公告)日：

2007-03-14

发明(设计)人：

石冢启太远藤浩太郎

申请人：

申请人地址：

日本神奈川

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

代理机构：

上海新高专利商标代理有限公司

代理人：

楼仙英

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-03-14	公开	公开
2010-08-18	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101004080223 IPC(主分类):G03F 7/039 专利申请号:2005800069913 公开日:20070314
2007-05-16	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P].

羽田英夫 ;

藤村悟史 ;

岩下淳 .

中国专利 :CN1276304C ,2005-02-09

[2]

正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P].

岩井武 ;

久保田尚孝 ;

藤村悟史 ;

羽田英夫 .

中国专利 :CN1310091C ,2005-03-23

[3]

正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P].

增田靖男 ;

奥井俊树 .

中国专利 :CN1849559B ,2006-10-18

[4]

正型光刻胶组合物及形成光刻胶图案的方法 [P].

增田靖男 ;

奥井俊树 .

中国专利 :CN1823108A ,2006-08-23

[5]

正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法 [P].

新田和行 ;

大久保和喜 ;

嶋谷聪 .

中国专利 :CN1591185A ,2005-03-09

[6]

光刻胶图案的形成方法和光刻胶层合体 [P].

山崎晃义 ;

本池直人 ;

川名大助 ;

佐藤和史 .

中国专利 :CN1424626A ,2003-06-18

[7]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

[8]

光刻胶图案的形成方法 [P].

訾安仁 ;

郑雅如 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN109782540A ,2019-05-21

[9]

光刻胶及形成光刻图案的方法 [P].

钱晓春 ;

胡春青 ;

马丽君 .

中国专利 :CN111061126A ,2020-04-24

[10]

负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN112731764A ,2021-04-30

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