正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02824118.5

申请日：

2002-11-29

公开(公告)号：

CN1310091C

公开(公告)日：

2005-03-23

发明(设计)人：

岩井武久保田尚孝藤村悟史羽田英夫

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王旭

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-04-11	授权	授权
2022-12-16	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):G03F 7/039 申请日:20021129 授权公告日:20070411
2005-03-23	公开	公开
2005-06-01	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P].

羽田英夫 ;

藤村悟史 ;

岩下淳 .

中国专利 :CN1276304C ,2005-02-09

[2]

正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P].

增田靖男 ;

奥井俊树 .

中国专利 :CN1849559B ,2006-10-18

[3]

正型光刻胶组合物及形成光刻胶图案的方法 [P].

增田靖男 ;

奥井俊树 .

中国专利 :CN1823108A ,2006-08-23

[4]

正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法 [P].

新田和行 ;

大久保和喜 ;

嶋谷聪 .

中国专利 :CN1591185A ,2005-03-09

[5]

浸液曝光用正型光刻胶组成物及光刻胶图案的形成方法 [P].

石冢启太 ;

远藤浩太郎 .

中国专利 :CN1930523A ,2007-03-14

[6]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

[7]

一种正型光刻胶组合物及制备方法和光刻胶图形形成方法 [P].

章韵 ;

赵家祺 .

中国专利 :CN114326300A ,2022-04-12

[8]

负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN112731764A ,2021-04-30

[9]

光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法 [P].

朴廷敏 ;

郑斗喜 ;

李羲国 ;

尹赫敏 ;

丘冀赫 .

中国专利 :CN101281369A ,2008-10-08

[10]

负性光刻胶组合物、制备方法及形成光刻胶图案的方法 [P].

周元基 ;

孙逊运 ;

向容 .

中国专利 :CN113985701B ,2024-11-01

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