一种掩模版及光刻机

被引：0

申请号：

CN202111652270.7

申请日：

2021-12-30

公开(公告)号：

CN114326291A

公开(公告)日：

2022-04-12

发明(设计)人：

胡健徐阳周世均王晓龙郑海昌陈力钧

申请人：

申请人地址：

201315 上海市浦东新区良腾路6号

IPC主分类号：

G03F138

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

周耀君

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-04-12	公开	公开
2022-04-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/38 申请日:20211230

共 50 条

[1]

光刻机测试掩模版 [P].

王俊峰 .

中国专利 :CN220691253U ,2024-03-29

[2]

掩模版及其制备方法、光刻机 [P].

郑海昌 ;

吴隆武 ;

王晓龙 .

中国专利 :CN112612177A ,2021-04-06

[3]

掩模版移动装置、光刻机及光刻方法 [P].

丁功明 .

中国专利 :CN110147032A ,2019-08-20

[4]

掩模版及其制备方法、光刻机 [P].

郑海昌 ;

吴隆武 ;

王晓龙 .

中国专利 :CN112612177B ,2024-01-23

[5]

掩模版冷却装置以及光刻机台 [P].

刘连军 ;

郝保同 .

中国专利 :CN207408742U ,2018-05-25

[6]

光刻掩模版、光刻污染物的处理方法、设备及光刻机 [P].

王依 ;

刘天棋 ;

徐月暑 ;

高金铭 ;

包宜骏 ;

匡翠方 .

中国专利 :CN119065198A ,2024-12-03

[7]

光刻机中掩模版的上版方法 [P].

郑椰琴 ;

齐芊枫 .

中国专利 :CN102156393B ,2011-08-17

[8]

用于光刻机中的掩模版固定装置及掩模版固定方法 [P].

黎刚生 ;

顾鲜红 ;

范哲光 .

中国专利 :CN102540779B ,2012-07-04

[9]

一种掩模台及光刻机 [P].

杨博光 ;

蔡晨 ;

张德峰 ;

王鑫鑫 ;

冒鹏飞 .

中国专利 :CN217305707U ,2022-08-26

[10]

一种掩模版及光刻机能量的监控系统 [P].

张龙 ;

王晓龙 .

中国专利 :CN216748435U ,2022-06-14

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