光刻机中掩模版的上版方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010110214.6

申请日：

2010-02-11

公开(公告)号：

CN102156393B

公开(公告)日：

2011-08-17

发明(设计)人：

郑椰琴齐芊枫

申请人：

申请人地址：

201203 上海市张江高科技园区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-08-17	公开	公开
2012-10-03	授权	授权
2017-07-25	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101756195707 IPC(主分类):G03F 9/00 专利号:ZL2010101102146 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号变更后:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号变更事项:共同专利权人变更前:上海微高精密机械工程有限公司变更后:上海微高精密机械工程有限公司
2011-09-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101113916385 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2010101102146 申请日:20100211

共 50 条

[1]

光刻机测试掩模版 [P].

王俊峰 .

中国专利 :CN220691253U ,2024-03-29

[2]

掩模版及其制备方法、光刻机 [P].

郑海昌 ;

吴隆武 ;

王晓龙 .

中国专利 :CN112612177A ,2021-04-06

[3]

掩模版及其制备方法、光刻机 [P].

郑海昌 ;

吴隆武 ;

王晓龙 .

中国专利 :CN112612177B ,2024-01-23

[4]

用于光刻机中的掩模版固定装置及掩模版固定方法 [P].

黎刚生 ;

顾鲜红 ;

范哲光 .

中国专利 :CN102540779B ,2012-07-04

[5]

掩模版移动装置、光刻机及光刻方法 [P].

丁功明 .

中国专利 :CN110147032A ,2019-08-20

[6]

一种掩模版及光刻机 [P].

胡健 ;

徐阳 ;

周世均 ;

王晓龙 ;

郑海昌 ;

陈力钧 .

中国专利 :CN114326291A ,2022-04-12

[7]

光刻掩模版、光刻污染物的处理方法、设备及光刻机 [P].

王依 ;

刘天棋 ;

徐月暑 ;

高金铭 ;

包宜骏 ;

匡翠方 .

中国专利 :CN119065198A ,2024-12-03

[8]

掩模版冷却装置以及光刻机台 [P].

刘连军 ;

郝保同 .

中国专利 :CN207408742U ,2018-05-25

[9]

用于掩模版传输的交换版机械手装置及具有其的光刻机 [P].

马方波 ;

吴福龙 .

中国专利 :CN107561868A ,2018-01-09

[10]

光刻机掩模的优化方法 [P].

王磊 ;

王向朝 ;

李思坤 ;

杨朝兴 .

中国专利 :CN105573066A ,2016-05-11

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