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用于掩模版传输的交换版机械手装置及具有其的光刻机
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610510807.9
申请日
:
2016-06-30
公开(公告)号
:
CN107561868A
公开(公告)日
:
2018-01-09
发明(设计)人
:
马方波
吴福龙
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张东路1525号
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
代理机构
:
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
:
屈蘅;李时云
法律状态
:
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-01-29
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F 7/20 申请公布日:20180109
2018-01-09
公开
公开
2018-02-02
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20160630
共 50 条
[1]
光刻机中掩模版的上版方法
[P].
郑椰琴
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郑椰琴
;
齐芊枫
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齐芊枫
.
中国专利
:CN102156393B
,2011-08-17
[2]
传感器、掩模板叉、机械手、掩模板传输系统及光刻机
[P].
唐文力
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唐文力
;
朱俊宇
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朱俊宇
;
吴芬
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吴芬
;
郑教增
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郑教增
;
吴钱忠
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吴钱忠
;
祝玥华
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祝玥华
.
中国专利
:CN110658685B
,2020-01-07
[3]
机械手、基底传输系统和光刻机
[P].
张阔峰
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张阔峰
;
姜杰
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姜杰
;
郑锋标
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郑锋标
;
郑教增
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郑教增
;
陈淮阳
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陈淮阳
;
陶洪建
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陶洪建
;
王刚
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王刚
.
中国专利
:CN207402799U
,2018-05-25
[4]
光刻机的硅片传输机械手控制器
[P].
吕素英
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吕素英
;
靖书磊
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靖书磊
;
姜杰
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姜杰
;
田耀杰
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田耀杰
.
中国专利
:CN203287744U
,2013-11-13
[5]
用于光刻机中的掩模版固定装置及掩模版固定方法
[P].
黎刚生
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黎刚生
;
顾鲜红
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顾鲜红
;
范哲光
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范哲光
.
中国专利
:CN102540779B
,2012-07-04
[6]
掩模版移动装置、光刻机及光刻方法
[P].
丁功明
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丁功明
.
中国专利
:CN110147032A
,2019-08-20
[7]
交换版机械手用吸附装置及交换版机械手
[P].
刘颖
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机构:
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
刘颖
;
关宏武
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机构:
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
关宏武
;
王浩楠
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机构:
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
王浩楠
;
林继柱
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机构:
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
林继柱
;
赵东雷
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机构:
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
赵东雷
.
中国专利
:CN118721159A
,2024-10-01
[8]
光刻掩模版、光刻污染物的处理方法、设备及光刻机
[P].
王依
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机构:
浙江大学杭州国际科创中心
浙江大学杭州国际科创中心
王依
;
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机构:
刘天棋
;
徐月暑
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机构:
浙江大学杭州国际科创中心
浙江大学杭州国际科创中心
徐月暑
;
论文数:
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机构:
高金铭
;
包宜骏
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机构:
浙江大学杭州国际科创中心
浙江大学杭州国际科创中心
包宜骏
;
论文数:
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机构:
匡翠方
.
中国专利
:CN119065198A
,2024-12-03
[9]
交换版机械手的调整方法及交换版机械手的使用方法
[P].
刘颖
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机构:
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
刘颖
;
关宏武
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机构:
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
关宏武
;
王浩楠
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机构:
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
王浩楠
;
郎平
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机构:
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
郎平
;
孙杨
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机构:
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
孙杨
;
赵东雷
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机构:
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
赵东雷
;
林继柱
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机构:
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
林继柱
.
中国专利
:CN115741760B
,2025-06-17
[10]
光刻机整平装置和具有其的光刻机
[P].
曲鲁杰
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曲鲁杰
;
何少锋
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何少锋
;
关远远
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关远远
.
中国专利
:CN113031401A
,2021-06-25
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