一种光刻机光源的优化方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410422502.3

申请日：

2014-08-26

公开(公告)号：

CN104155852B

公开(公告)日：

2014-11-19

发明(设计)人：

王磊王向朝李思坤闫观勇杨朝兴

申请人：

申请人地址：

201800 上海市嘉定区上海800－211邮政信箱

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F176

代理机构：

上海新天专利代理有限公司 31213

代理人：

张泽纯;张宁展

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101591907781 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014104225023 申请日:20140826
2014-11-19	公开	公开
2019-10-25	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20190930 变更事项:专利权人变更前权利人:中国科学院上海光学精密机械研究所变更后权利人:北京国望光学科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:201800 上海市嘉定区上海800－211邮政信箱变更后权利人:100176 北京市大兴区北京经济技术开发区景园北街2号52幢6层601-10室
2016-04-13	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻机掩模的优化方法 [P].

王磊 ;

王向朝 ;

李思坤 ;

杨朝兴 .

中国专利 :CN105573066A ,2016-05-11

[2]

一种用于光刻机的光源掩模优化方法 [P].

闫观勇 ;

李思坤 ;

王向朝 .

中国专利 :CN104714372A ,2015-06-17

[3]

光刻机光源与掩模的联合优化方法 [P].

李兆泽 ;

李思坤 ;

王向朝 .

中国专利 :CN103926802A ,2014-07-16

[4]

光刻机多参数联合优化方法 [P].

李思坤 ;

茅言杰 ;

王向朝 .

中国专利 :CN110554580A ,2019-12-10

[5]

一种光刻机光源 [P].

孙者利 ;

张运 .

中国专利 :CN205210510U ,2016-05-04

[6]

一种光刻机的工艺控制方法及光刻机 [P].

顾连明 ;

王振 ;

刘大林 ;

梅飞雄 ;

冀端 .

中国专利 :CN118519316A ,2024-08-20

[7]

光刻机光源装置 [P].

敬立成 ;

戴滔 ;

张斌 .

中国专利 :CN208399889U ,2019-01-18

[8]

防止光刻机光源的窗片变形的方法、结构、光源及光刻机 [P].

张琪 ;

符友银 .

中国专利 :CN120010199A ,2025-05-16

[9]

一种光刻机的光源结构 [P].

李建鑫 ;

何晶洋 .

中国专利 :CN223217781U ,2025-08-12

[10]

一种光刻机光源装置 [P].

唐阳明 .

中国专利 :CN210954608U ,2020-07-07

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