一种用于光刻机的光源掩模优化方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510097250.6

申请日：

2015-03-05

公开(公告)号：

CN104714372A

公开(公告)日：

2015-06-17

发明(设计)人：

闫观勇李思坤王向朝

申请人：

申请人地址：

201800 上海市嘉定区上海市800－211邮政信箱

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海新天专利代理有限公司 31213

代理人：

张泽纯;张宁展

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101616812544 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2015100972506 申请日:20150305
2019-10-18	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20190925 变更事项:专利权人变更前权利人:中国科学院上海光学精密机械研究所变更后权利人:北京国望光学科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:201800 上海市嘉定区上海市800－211邮政信箱变更后权利人:100176 北京市大兴区北京经济技术开发区景园北街2号52幢6层601-10室
2016-12-07	授权	授权
2015-06-17	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻机光源与掩模的联合优化方法 [P].

李兆泽 ;

李思坤 ;

王向朝 .

中国专利 :CN103926802A ,2014-07-16

[2]

光刻机掩模的优化方法 [P].

王磊 ;

王向朝 ;

李思坤 ;

杨朝兴 .

中国专利 :CN105573066A ,2016-05-11

[3]

一种光刻机光源的优化方法 [P].

王磊 ;

王向朝 ;

李思坤 ;

闫观勇 ;

杨朝兴 .

中国专利 :CN104155852B ,2014-11-19

[4]

光刻机多参数联合优化方法 [P].

李思坤 ;

茅言杰 ;

王向朝 .

中国专利 :CN110554580A ,2019-12-10

[5]

一种光刻机掩模台 [P].

谭军 ;

庞超群 ;

朱晓春 ;

朱凯 .

中国专利 :CN118444538B ,2024-11-01

[6]

一种光刻机掩模台 [P].

谭军 ;

庞超群 ;

朱晓春 ;

朱凯 .

中国专利 :CN118444538A ,2024-08-06

[7]

一种光刻机光掩模夹具和JBX光刻机 [P].

陈灏霆 ;

葛海鸣 ;

孙长杰 ;

张卓维 ;

廖浩 ;

曹宇 .

中国专利 :CN120871552A ,2025-10-31

[8]

一种光刻机光源 [P].

孙者利 ;

张运 .

中国专利 :CN205210510U ,2016-05-04

[9]

光刻机测试掩模版 [P].

王俊峰 .

中国专利 :CN220691253U ,2024-03-29

[10]

光刻机光源装置 [P].

敬立成 ;

戴滔 ;

张斌 .

中国专利 :CN208399889U ,2019-01-18

← 1 2 3 4 5 →