检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810145013.2

申请日：

2008-08-01

公开(公告)号：

CN101382737A

公开(公告)日：

2009-03-11

发明(设计)人：

雨果·奥古斯蒂纳斯·约瑟夫·克拉梅尔

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王波波

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-02-09	授权	授权
2009-05-06	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-03-11	公开	公开

共 50 条

[1]

检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法 [P].

亚历山大·斯卓艾杰尔 ;

罗纳德·弗朗西斯科斯·赫尔曼·休格斯 .

中国专利 :CN101251718A ,2008-08-27

[2]

检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法 [P].

H·克拉莫 ;

P·海恩 .

中国专利 :CN102272678A ,2011-12-07

[3]

检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法 [P].

H·克拉莫 ;

P·海恩 .

中国专利 :CN104834186B ,2015-08-12

[4]

检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法 [P].

阿瑞·杰弗里·单勃拂 ;

斯特尼斯拉伍·Y·斯米尼挪伍 ;

安戴尔·琼比尤尔 .

中国专利 :CN101510051A ,2009-08-19

[5]

检验设备和方法、光刻设备、光刻处理单元以及器件制造方法 [P].

理查德·金塔尼利亚 .

中国专利 :CN105359039B ,2016-02-24

[6]

光刻设备和器件制造方法 [P].

埃多·赫尔斯伯斯 .

中国专利 :CN104769502A ,2015-07-08

[7]

检验设备、光刻设备、光刻处理单元以及检验方法 [P].

H·A·J·克瑞姆 ;

A·G·M·基尔斯 ;

H·P·M·派勒曼斯 .

中国专利 :CN101819384B ,2010-09-01

[8]

光刻簇、光刻设备和器件制造方法 [P].

I·采马 ;

E·B·凯蒂 ;

J·D·康妮 .

中国专利 :CN111316170A ,2020-06-19

[9]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约瑟夫·玛丽亚·芬德斯 .

中国专利 :CN101598902B ,2009-12-09

[10]

光刻设备和器件制造方法 [P].

J·C·H·穆肯斯 ;

W·P·德博伊 ;

C·A·科勒 .

中国专利 :CN1760763A ,2006-04-19

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