重叠测量设备、光刻设备和使用这种重叠测量设备的器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980123676.7

申请日：

2009-05-14

公开(公告)号：

CN102067040A

公开(公告)日：

2011-05-18

发明(设计)人：

A·邓鲍夫

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-05-08	授权	授权
2011-07-20	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101088107951 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801236767 申请日:20090514
2011-05-18	公开	公开

共 50 条

[1]

测量方法、测量设备、光刻设备和器件制造方法 [P].

E·W·埃伯特 ;

F·G·C·比基恩 .

中国专利 :CN106796406A ,2017-05-31

[2]

重叠测量方法和使用其的重叠测量设备 [P].

崔交亨 ;

朴珍俊 .

中国专利 :CN101063829A ,2007-10-31

[3]

测量重叠误差的半导体器件和方法、光刻设备及器件制造方法 [P].

摩西·杜萨 ;

阿克塞尔·纳克尔特斯 ;

古斯塔夫·沃哈根 .

中国专利 :CN101202268B ,2008-06-18

[4]

重叠测量的方法、光刻设备、检查设备、处理设备和光刻处理单元 [P].

A·邓鲍夫 .

中国专利 :CN102460310A ,2012-05-16

[5]

测量方法、测量设备、光刻设备及器件制造方法 [P].

A·J·登博夫 ;

M·H·M·比姆斯 ;

T·P·M·卡迪 ;

R·W·L·拉法瑞 .

中国专利 :CN102645847A ,2012-08-22

[6]

测量系统、光刻设备和器件制造方法 [P].

H-K·尼恩海斯 ;

G·纳基博格鲁 ;

R·M·A·L·佩蒂特 ;

H·F·佩恩 ;

R·Y·范德默斯迪杰克 ;

F·J·J·范博克斯特尔 ;

B·克瑞金加 .

中国专利 :CN108700830B ,2018-10-23

[7]

用于测量微结构的非对称性的方法和设备、位置测量方法、位置测量设备、光刻设备和器件制造方法 [P].

S·G·J·玛斯吉森 .

中国专利 :CN105143986B ,2015-12-09

[8]

光刻设备和器件制造方法以及测量系统 [P].

M·H·M·比姆斯 ;

E·A·F·范德帕斯奇 .

中国专利 :CN100476588C ,2005-04-27

[9]

光刻设备和器件制造方法以及测量系统 [P].

M·H·M·比姆斯 ;

E·A·F·范德帕斯奇 .

中国专利 :CN101398633A ,2009-04-01

[10]

光刻设备和器件制造方法以及测量系统 [P].

M·H·M·比姆斯 ;

E·A·F·范德帕斯奇 .

中国专利 :CN101398634B ,2009-04-01

← 1 2 3 4 5 →