重叠测量的方法、光刻设备、检查设备、处理设备和光刻处理单元

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080026875.9

申请日：

2010-06-03

公开(公告)号：

CN102460310A

公开(公告)日：

2012-05-16

发明(设计)人：

A·邓鲍夫

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴敬莲

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-07-02	授权	授权
2012-05-16	公开	公开
2012-06-27	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101274715053 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2010800268759 申请日:20100603

共 50 条

[1]

检查方法和设备、光刻设备和光刻处理单元 [P].

埃维哈德斯·科尼利斯·莫斯 ;

艾瑞·杰弗里·登保埃夫 ;

马瑞特斯·万德思查尔 ;

托马斯·利奥·玛丽亚·胡根鲍姆 .

中国专利 :CN101236359B ,2008-08-06

[2]

检查设备和方法、光刻设备和处理单元、器件制造方法 [P].

K·巴哈特塔卡里雅 ;

A·J·登博夫 ;

S·C·J·A·凯吉 ;

P·C·P·瓦诺鹏 .

中国专利 :CN102636963A ,2012-08-15

[3]

检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法 [P].

H·克拉莫 ;

P·海恩 .

中国专利 :CN102272678A ,2011-12-07

[4]

检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法 [P].

H·克拉莫 ;

P·海恩 .

中国专利 :CN104834186B ,2015-08-12

[5]

检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法 [P].

阿瑞·杰弗里·单勃拂 ;

斯特尼斯拉伍·Y·斯米尼挪伍 ;

安戴尔·琼比尤尔 .

中国专利 :CN101510051A ,2009-08-19

[6]

检查设备、光刻设备、测量方法 [P].

B·J·P·罗塞特 ;

J·H·E·A·姆吉德尔曼 ;

B·C·H·斯梅茨 .

中国专利 :CN113474732A ,2021-10-01

[7]

检验设备和方法、光刻设备、光刻处理单元以及器件制造方法 [P].

理查德·金塔尼利亚 .

中国专利 :CN105359039B ,2016-02-24

[8]

检验设备、光刻设备、光刻处理单元以及检验方法 [P].

H·A·J·克瑞姆 ;

A·G·M·基尔斯 ;

H·P·M·派勒曼斯 .

中国专利 :CN101819384B ,2010-09-01

[9]

重叠测量设备、光刻设备和使用这种重叠测量设备的器件制造方法 [P].

A·邓鲍夫 .

中国专利 :CN102067040A ,2011-05-18

[10]

量测方法和设备、光刻系统以及光刻处理单元 [P].

H·克拉莫 ;

A·邓鲍夫 ;

H·麦根斯 ;

H·斯米尔德 ;

A·斯盖勒肯斯 ;

M·库比斯 .

中国专利 :CN102498441B ,2012-06-13

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