检查设备、光刻设备、测量方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080016718.3

申请日：

2020-01-28

公开(公告)号：

CN113474732A

公开(公告)日：

2021-10-01

发明(设计)人：

B·J·P·罗塞特 J·H·E·A·姆吉德尔曼 B·C·H·斯梅茨

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

赵林琳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-01	公开	公开
2022-03-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 9/00 申请日:20200128

共 50 条

[1]

测量系统、光刻设备和测量方法 [P].

马克·威廉姆斯·玛丽亚·范德威吉斯特 ;

恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 ;

克恩·雅克布斯·约翰尼斯·玛丽亚·扎安尔 .

中国专利 :CN101276155B ,2008-10-01

[2]

测量系统、光刻设备和测量方法 [P].

马克·威廉姆斯·玛丽亚·范德威吉斯特 ;

恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 ;

克恩·雅克布斯·约翰尼斯·玛丽亚·扎安尔 .

中国专利 :CN102096332A ,2011-06-15

[3]

测量系统及其测量方法、光刻设备 [P].

杨晨 ;

朱金台 ;

刘美娇 ;

高丹妮 ;

任文然 .

中国专利 :CN119717404A ,2025-03-28

[4]

光刻设备和位置测量方法 [P].

E·J·M·尤斯森 ;

T·A·R·范埃佩 ;

W·O·普里 .

中国专利 :CN1758140A ,2006-04-12

[5]

测量方法、检验设备和光刻设备 [P].

埃维哈德斯·科尼科斯·摩斯 ;

毛瑞特斯·范德查尔 .

中国专利 :CN101231472B ,2008-07-30

[6]

位置测量方法、位置测量系统以及光刻设备 [P].

吴萍 ;

付强 .

中国专利 :CN117537704A ,2024-02-09

[7]

测量方法、测量设备、光刻设备和器件制造方法 [P].

E·W·埃伯特 ;

F·G·C·比基恩 .

中国专利 :CN106796406A ,2017-05-31

[8]

测量方法、测量设备、光刻设备及器件制造方法 [P].

A·J·登博夫 ;

M·H·M·比姆斯 ;

T·P·M·卡迪 ;

R·W·L·拉法瑞 .

中国专利 :CN102645847A ,2012-08-22

[9]

位置测量装置、测量方法及光刻设备 [P].

吴萍 ;

王周青 ;

司纪宗 .

中国专利 :CN120704067A ,2025-09-26

[10]

重叠测量的方法、光刻设备、检查设备、处理设备和光刻处理单元 [P].

A·邓鲍夫 .

中国专利 :CN102460310A ,2012-05-16

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