测量系统及其测量方法、光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311290279.7

申请日：

2023-09-27

公开(公告)号：

CN119717404A

公开(公告)日：

2025-03-28

发明(设计)人：

杨晨朱金台刘美娇高丹妮任文然

申请人：

华为技术有限公司

申请人地址：

518129 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F9/00

代理机构：

北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319

代理人：

王洪

法律状态：

公开

国省代码：

广东省深圳市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-28	公开	公开

共 50 条

[1]

测量系统、光刻设备和测量方法 [P].

马克·威廉姆斯·玛丽亚·范德威吉斯特 ;

恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 ;

克恩·雅克布斯·约翰尼斯·玛丽亚·扎安尔 .

中国专利 :CN101276155B ,2008-10-01

[2]

测量系统、光刻设备和测量方法 [P].

马克·威廉姆斯·玛丽亚·范德威吉斯特 ;

恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 ;

克恩·雅克布斯·约翰尼斯·玛丽亚·扎安尔 .

中国专利 :CN102096332A ,2011-06-15

[3]

位置测量方法、位置测量系统以及光刻设备 [P].

吴萍 ;

付强 .

中国专利 :CN117537704A ,2024-02-09

[4]

检查设备、光刻设备、测量方法 [P].

B·J·P·罗塞特 ;

J·H·E·A·姆吉德尔曼 ;

B·C·H·斯梅茨 .

中国专利 :CN113474732A ,2021-10-01

[5]

测量方法及其测量系统 [P].

陈鲁 ;

吕肃 ;

李青格乐 ;

张嵩 .

中国专利 :CN110940267A ,2020-03-31

[6]

光刻设备和位置测量方法 [P].

E·J·M·尤斯森 ;

T·A·R·范埃佩 ;

W·O·普里 .

中国专利 :CN1758140A ,2006-04-12

[7]

用于光刻设备的调焦调平系统及测量方法 [P].

李志丹 ;

程雪 ;

陈飞彪 .

中国专利 :CN103365096B ,2013-10-23

[8]

位置测量装置、测量方法及光刻设备 [P].

吴萍 ;

王周青 ;

司纪宗 .

中国专利 :CN120704067A ,2025-09-26

[9]

全视角扫描测量系统及其靶标测量方法 [P].

何溪波 ;

黄勇 ;

袁秀志 ;

张卫攀 ;

阎炎 ;

马燕飞 .

中国专利 :CN107202553B ,2017-09-26

[10]

测量系统及其测量方法 [P].

林祐瑄 ;

刘大纲 .

中国专利 :CN110161977B ,2019-08-23

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