测量系统、光刻设备和测量方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810086782.X

申请日：

2008-03-26

公开(公告)号：

CN101276155B

公开(公告)日：

2008-10-01

发明(设计)人：

马克·威廉姆斯·玛丽亚·范德威吉斯特恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇克恩·雅克布斯·约翰尼斯·玛丽亚·扎安尔

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G01D538

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-10-01	公开	公开
2010-12-22	授权	授权
2008-11-26	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

测量系统、光刻设备和测量方法 [P].

马克·威廉姆斯·玛丽亚·范德威吉斯特 ;

恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 ;

克恩·雅克布斯·约翰尼斯·玛丽亚·扎安尔 .

中国专利 :CN102096332A ,2011-06-15

[2]

测量系统及其测量方法、光刻设备 [P].

杨晨 ;

朱金台 ;

刘美娇 ;

高丹妮 ;

任文然 .

中国专利 :CN119717404A ,2025-03-28

[3]

光刻设备和位置测量方法 [P].

E·J·M·尤斯森 ;

T·A·R·范埃佩 ;

W·O·普里 .

中国专利 :CN1758140A ,2006-04-12

[4]

位置测量方法、位置测量系统以及光刻设备 [P].

吴萍 ;

付强 .

中国专利 :CN117537704A ,2024-02-09

[5]

位移测量系统、光刻设备、位移测量方法和装置制造方法 [P].

B·A·J·卢蒂克休斯 ;

H·H·M·科克斯 ;

E·R·卢普斯特拉 ;

E·A·F·范德帕施 ;

H·K·范德舒特 .

中国专利 :CN101071276A ,2007-11-14

[6]

测量系统、方法和光刻设备 [P].

H·H·M·考克西 ;

W·H·G·A·考恩 ;

T·A·马塔尔 ;

M·T·J·彼德尔斯 ;

R·A·A·沃库伊耶 .

中国专利 :CN102298269A ,2011-12-28

[7]

检查设备、光刻设备、测量方法 [P].

B·J·P·罗塞特 ;

J·H·E·A·姆吉德尔曼 ;

B·C·H·斯梅茨 .

中国专利 :CN113474732A ,2021-10-01

[8]

测量方法、测量设备、光刻设备和器件制造方法 [P].

E·W·埃伯特 ;

F·G·C·比基恩 .

中国专利 :CN106796406A ,2017-05-31

[9]

测量方法、检验设备和光刻设备 [P].

埃维哈德斯·科尼科斯·摩斯 ;

毛瑞特斯·范德查尔 .

中国专利 :CN101231472B ,2008-07-30

[10]

测量方法和测量系统 [P].

藤原光 .

日本专利 :CN118103663A ,2024-05-28

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