光刻设备和器件制造方法以及测量系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810166156.1

申请日：

2004-10-21

公开(公告)号：

CN101398634B

公开(公告)日：

2009-04-01

发明(设计)人：

M·H·M·比姆斯 E·A·F·范德帕斯奇

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L2102

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-04-01	公开	公开
2012-01-04	授权	授权
2019-10-18	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20041021 授权公告日:20120104 终止日期:20181021
2009-05-27	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

光刻设备和器件制造方法以及测量系统 [P].

M·H·M·比姆斯 ;

E·A·F·范德帕斯奇 .

中国专利 :CN100476588C ,2005-04-27

[2]

光刻设备和器件制造方法以及测量系统 [P].

M·H·M·比姆斯 ;

E·A·F·范德帕斯奇 .

中国专利 :CN101398633A ,2009-04-01

[3]

测量系统、光刻设备和器件制造方法 [P].

H-K·尼恩海斯 ;

G·纳基博格鲁 ;

R·M·A·L·佩蒂特 ;

H·F·佩恩 ;

R·Y·范德默斯迪杰克 ;

F·J·J·范博克斯特尔 ;

B·克瑞金加 .

中国专利 :CN108700830B ,2018-10-23

[4]

位置测量系统、光刻设备以及器件制造方法 [P].

W·H·G·A·考恩 ;

E·J·M·尤森 ;

E·A·F·范德帕斯奇 ;

R·E·范莱文 ;

A·H·考沃埃特斯 .

中国专利 :CN102954761B ,2013-03-06

[5]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·J·沃奥尔戴尔冬克 ;

M·W·J·E·威吉克曼斯 .

中国专利 :CN110268332A ,2019-09-20

[6]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约翰内斯·昂伍李 ;

彼得·德亚格尔 ;

埃尔温·范茨韦特 .

中国专利 :CN102770810A ,2012-11-07

[7]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·W·J·E·维杰克曼斯 ;

E·A·F·范德帕施 ;

C·A·霍根达姆 ;

B·A·J·勒提库斯 .

中国专利 :CN107407889A ,2017-11-28

[8]

光刻设备和器件制造方法 [P].

T·哈德曼 .

中国专利 :CN101930183B ,2010-12-29

[9]

光刻设备和器件制造方法 [P].

E·A·F·范德帕斯卡 ;

E·J·M·尤森 ;

E·R·鲁普斯卓 .

中国专利 :CN102072742B ,2011-05-25

[10]

光刻设备以及器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·W·M·范德维基斯特 ;

C·A·L·德霍恩 .

中国专利 :CN101441420B ,2009-05-27

← 1 2 3 4 5 →