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光刻设备和器件制造方法以及测量系统

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200810166156.1
申请日：
2004-10-21
公开(公告)号：
CN101398634B
公开(公告)日：
2009-04-01
发明(设计)人：
M·H·M·比姆斯 E·A·F·范德帕斯奇
申请人：
申请人地址：
荷兰维德霍温
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
H01L2102
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
王波波
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2009-04-01 公开 公开
2012-01-04 授权 授权
2019-10-18 专利权的终止 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20041021 授权公告日:20120104 终止日期:20181021
2009-05-27 实质审查的生效 实质审查的生效
共 50 条
[21]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
T·P·M·卡迪 ;
J·H·W·贾科布斯 ;
N·坦卡特 ;
E·R·鲁普斯特拉 ;
A·L·H·J·范米尔 ;
J·J·S·M·梅坦斯 ;
C·G·M·德莫 ;
M·J·E·H·米特詹斯 ;
A·J·范德内特 ;
J·J·奥坦斯 ;
J·A·夸伊达克斯 ;
M·E·鲁曼-休斯肯 ;
M·K·斯塔温加 ;
P·A·J·廷内曼斯 ;
M·C·M·维哈根 ;
J·J·L·H·维斯帕 ;
F·E·德荣格 ;
K·戈尔曼 ;
B·门奇奇科夫 ;
H·博姆 ;
S·尼蒂亚诺夫 ;
R·莫尔曼 ;
M·F·P·斯米特斯 ;
B·L·P·小恩德马克 ;
F·J·J·詹斯森 ;
M·里伊彭 .
中国专利 :CN101923290B ,2010-12-22
[22]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
V·V·伊万诺夫 ;
V·Y·班尼恩 ;
K·N·克什烈夫 ;
V·M·克里夫特逊 .
中国专利 :CN101779524B ,2010-07-14
[23]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
T·P·M·卡迪 ;
J·H·W·贾科布斯 ;
N·坦卡特 ;
E·R·鲁普斯特拉 ;
A·L·H·J·范米尔 ;
J·J·S·M·梅坦斯 ;
C·G·M·德莫 ;
M·J·E·H·米特詹斯 ;
A·J·范德内特 ;
J·J·奥坦斯 ;
J·A·夸伊达克斯 ;
M·E·鲁曼－休斯肯 ;
M·K·斯塔温加 ;
P·A·J·廷内曼斯 ;
M·C·M·维哈根 ;
J·J·L·H·维斯帕 ;
F·E·德荣格 ;
K·戈尔曼 ;
B·门奇奇科夫 ;
H·博姆 ;
S·尼蒂亚诺夫 ;
R·莫尔曼 ;
M·F·P·斯米特斯 ;
B·L·P·小恩德马克 ;
F·J·J·詹斯森 ;
M·里伊彭 .
中国专利 :CN1746775A ,2006-03-15
[24]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
F·G·C·比恩 ;
E·M·休瑟博斯 .
中国专利 :CN107850861B ,2018-03-27
[25]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
D·J·M·迪莱克斯 ;
E·H·E·C·埃尤梅伦 ;
C·J·G·范登顿根 ;
M·A·C·斯奇皮尔斯 ;
S·舒勒波夫 ;
P·木尔德 ;
D·毕塞姆斯 ;
M·巴拉古拿 .
中国专利 :CN102141737A ,2011-08-03
[26]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
J·P·M·B·沃麦尤伦 ;
A·F·J·德格鲁特 ;
T·P·M·卡迪 ;
J·德保伊 .
中国专利 :CN102566306A ,2012-07-11
[27]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
埃尔温·范茨韦特 ;
彼得·德亚格尔 ;
约翰内斯·昂伍李 ;
埃里克·弗瑞特茨 .
中国专利 :CN102834777B ,2012-12-19
[28]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
B·范霍夫 ;
J·科塔尔 .
中国专利 :CN108369390B ,2018-08-03
[29]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
J·J·库特 ;
D·F·库普 .
中国专利 :CN101634812A ,2010-01-27
[30]
光刻设备和器件制造方法 [P]. 
鲍勃·斯特里弗克尔克 ;
尧里·乔哈尼斯·劳仁提尤斯·玛丽亚·凡达麦乐恩 ;
里查德·莫尔曼 ;
塞德里克·德瑟 .
中国专利 :CN101221363B ,2008-07-16
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