光刻设备和器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680073173.3

申请日：

2016-11-17

公开(公告)号：

CN108369390B

公开(公告)日：

2018-08-03

发明(设计)人：

B·范霍夫 J·科塔尔

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

张启程

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-08-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 9/00 申请日:20161117
2021-05-18	授权	授权
2018-08-03	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·J·登鲍埃夫 .

中国专利 :CN102193327B ,2011-09-21

[2]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·J·沃奥尔戴尔冬克 ;

M·W·J·E·威吉克曼斯 .

中国专利 :CN110268332A ,2019-09-20

[3]

光刻设备和器件制造方法 [P].

J·J·奥坦斯 ;

M·E·J·伯恩曼 ;

T·J·M·卡斯坦米勒 ;

A·B·祖尼克 .

中国专利 :CN1971430A ,2007-05-30

[4]

光刻设备和器件制造方法 [P].

W·P·范德兰特 .

中国专利 :CN102193329A ,2011-09-21

[5]

光刻设备和器件制造方法 [P].

M·J·沃奥尔戴尔冬克 ;

R·C·昆斯特 ;

Y·K·M·德沃斯 ;

J·H·A·范德瑞吉德特 ;

R·J·T·范克姆彭 .

中国专利 :CN101840159B ,2010-09-22

[6]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约翰内斯·昂伍李 ;

彼得·德亚格尔 ;

埃尔温·范茨韦特 .

中国专利 :CN102770811A ,2012-11-07

[7]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·J·登勃夫 ;

L·夸迪伊 ;

D·萨里 .

中国专利 :CN102193330A ,2011-09-21

[8]

光刻设备和器件制造方法 [P].

C·M·鲁普斯 ;

N·R·凯姆皮尔 ;

M·里彭 .

中国专利 :CN102096330B ,2011-06-15

[9]

光刻设备、光刻投影设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

B·M·古伯特 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

M·W·J·E·威吉克曼斯 .

中国专利 :CN109564392B ,2019-04-02

[10]

光刻设备、校准方法和器件制造方法 [P].

J·G·C·坦佩拉斯 ;

G·C·J·霍夫曼斯 ;

R·奥斯特霍尔特 ;

J·豪希尔德 ;

H·E·卡图 .

中国专利 :CN101071279B ,2007-11-14

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