光刻设备和器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110056943.2

申请日：

2011-03-07

公开(公告)号：

CN102193329A

公开(公告)日：

2011-09-21

发明(设计)人：

W·P·范德兰特

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-03-01	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20110307 授权公告日:20140917 终止日期:20180307
2011-09-21	公开	公开
2011-11-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101141112944 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011100569432 申请日:20110307
2014-09-17	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·J·登鲍埃夫 .

中国专利 :CN102193327B ,2011-09-21

[2]

光刻设备和器件制造方法 [P].

B·范霍夫 ;

J·科塔尔 .

中国专利 :CN108369390B ,2018-08-03

[3]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·J·登勃夫 ;

L·夸迪伊 ;

D·萨里 .

中国专利 :CN102193330A ,2011-09-21

[4]

光刻设备、校准方法和器件制造方法 [P].

J·G·C·坦佩拉斯 ;

G·C·J·霍夫曼斯 ;

R·奥斯特霍尔特 ;

J·豪希尔德 ;

H·E·卡图 .

中国专利 :CN101071279B ,2007-11-14

[5]

光刻设备和器件制造方法 [P].

埃瑞克·派卓斯·伯曼 ;

汤姆斯·约瑟夫斯·玛丽亚·卡斯腾米勒 ;

约翰尼斯·威尔荷尔姆斯·玛丽亚·科尼利斯·蒂尤乌森 ;

贝尔雷切·莫爱斯特 ;

马克·安东尼斯·玛丽亚·哈斯特 .

中国专利 :CN101180582B ,2008-05-14

[6]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·J·沃奥尔戴尔冬克 ;

M·W·J·E·威吉克曼斯 .

中国专利 :CN110268332A ,2019-09-20

[7]

光刻设备和器件制造方法 [P].

J·J·奥坦斯 ;

M·E·J·伯恩曼 ;

T·J·M·卡斯坦米勒 ;

A·B·祖尼克 .

中国专利 :CN1971430A ,2007-05-30

[8]

光刻设备和器件制造方法 [P].

埃多·赫尔斯伯斯 .

中国专利 :CN104769502A ,2015-07-08

[9]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·H·J·A·马登斯 ;

P·J·克拉莫尔 .

中国专利 :CN101968608B ,2011-02-09

[10]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约翰内斯·昂伍李 ;

彼得·德亚格尔 ;

埃尔温·范茨韦特 .

中国专利 :CN102770811A ,2012-11-07

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