光刻设备和器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680040943.4

申请日：

2016-07-07

公开(公告)号：

CN107850861B

公开(公告)日：

2018-03-27

发明(设计)人：

F·G·C·比恩 E·M·休瑟博斯

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

王茂华;吕世磊

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-03-27	公开	公开
2018-04-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 9/00 申请日:20160707
2020-08-07	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·J·布里克 ;

A·L·H·J·范米尔 .

中国专利 :CN101765811A ,2010-06-30

[2]

光刻设备和器件制造方法 [P].

R·T·P·考姆彭 ;

M·M·P·A·沃梅尤恩 ;

A·B·杰尤恩克 ;

E·R·鲁普斯卓 ;

J·J·奥腾斯 ;

P·斯密特斯 ;

H·J·M·凡阿毕伦 ;

A·A·梅尤恩迪杰克斯 ;

M·霍本 ;

R·W·A·H·理纳尔斯 .

中国专利 :CN101713929A ,2010-05-26

[3]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·J·沃奥尔戴尔冬克 ;

M·W·J·E·威吉克曼斯 .

中国专利 :CN110268332A ,2019-09-20

[4]

光刻设备和器件制造方法 [P].

B·莫斯特 ;

L·L·贝克 ;

J·R·唐斯 ;

W·霍伊汀加 ;

H·F·佩恩 .

中国专利 :CN108713167A ,2018-10-26

[5]

光刻设备和器件制造方法 [P].

V·V·伊万诺夫 ;

V·Y·班尼恩 ;

K·N·克什烈夫 ;

V·M·克里夫特逊 .

中国专利 :CN101779524B ,2010-07-14

[6]

光刻设备和器件制造方法 [P].

F·G·C·比恩 ;

A·J·登博夫 ;

R·J·F·范哈伦 ;

P·A·J·廷尼曼斯 ;

A·雅玛 ;

I·A·莱利娜 ;

E·M·休瑟博斯 ;

H·E·切克利 ;

柳星兰 ;

L·J·P·维尔希斯 ;

V·E·卡拉多 ;

L·P·范迪克 .

中国专利 :CN107850862B ,2018-03-27

[7]

光刻设备和器件制造方法 [P].

J·J·库特 ;

D·F·库普 .

中国专利 :CN101634812A ,2010-01-27

[8]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约翰尼思·欧恩伍里 ;

德克-詹·毕杰沃伊特 .

中国专利 :CN101183223B ,2008-05-21

[9]

光刻设备和器件制造方法 [P].

哈利·西维尔 ;

约瑟夫·帕卓斯·亨瑞克瑞·本叔普 .

中国专利 :CN101556438B ,2009-10-14

[10]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约瑟夫·玛丽亚·芬德斯 .

中国专利 :CN101598902B ,2009-12-09

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