光刻设备和器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680041723.3

申请日：

2016-06-28

公开(公告)号：

CN107850862B

公开(公告)日：

2018-03-27

发明(设计)人：

F·G·C·比恩 A·J·登博夫 R·J·F·范哈伦 P·A·J·廷尼曼斯 A·雅玛 I·A·莱利娜 E·M·休瑟博斯 H·E·切克利柳星兰 L·J·P·维尔希斯 V·E·卡拉多 L·P·范迪克

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

王茂华;崔卿虎

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-03-27	公开	公开
2018-04-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 9/00 申请日:20160628
2020-06-05	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻设备和器件制造方法 [P].

F·G·C·比恩 ;

E·M·休瑟博斯 .

中国专利 :CN107850861B ,2018-03-27

[2]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·J·沃奥尔戴尔冬克 ;

M·W·J·E·威吉克曼斯 .

中国专利 :CN110268332A ,2019-09-20

[3]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约翰内斯·昂伍李 ;

彼得·德亚格尔 ;

埃尔温·范茨韦特 .

中国专利 :CN102770810A ,2012-11-07

[4]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·W·J·E·维杰克曼斯 ;

E·A·F·范德帕施 ;

C·A·霍根达姆 ;

B·A·J·勒提库斯 .

中国专利 :CN107407889A ,2017-11-28

[5]

光刻设备和器件制造方法 [P].

P·A·J·廷尼曼斯 .

中国专利 :CN108027571A ,2018-05-11

[6]

光刻设备和器件制造方法 [P].

T·哈德曼 .

中国专利 :CN101930183B ,2010-12-29

[7]

光刻设备和器件制造方法 [P].

E·A·F·范德帕斯卡 ;

E·J·M·尤森 ;

E·R·鲁普斯卓 .

中国专利 :CN102072742B ,2011-05-25

[8]

光刻设备、校准光刻设备的方法和器件制造方法 [P].

科恩·雅各布斯·约翰尼斯·玛利亚·扎尔 ;

约斯特·耶罗恩·奥藤斯 ;

尤多库斯·玛丽·多米尼克斯·斯图尔德拉伊尔 ;

安东尼厄斯·约翰尼斯·德科尔特 ;

弗朗西斯库斯·范德马斯特 ;

马尔特伊恩·德容 .

中国专利 :CN101149569B ,2008-03-26

[9]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约瑟夫·玛丽亚·芬德斯 .

中国专利 :CN101598902B ,2009-12-09

[10]

光刻设备和器件制造方法 [P].

J·C·H·穆肯斯 ;

W·P·德博伊 ;

C·A·科勒 .

中国专利 :CN1760763A ,2006-04-19

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