光刻设备、校准光刻设备的方法和器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710182105.3

申请日：

2007-07-27

公开(公告)号：

CN101149569B

公开(公告)日：

2008-03-26

发明(设计)人：

科恩·雅各布斯·约翰尼斯·玛利亚·扎尔约斯特·耶罗恩·奥藤斯尤多库斯·玛丽·多米尼克斯·斯图尔德拉伊尔安东尼厄斯·约翰尼斯·德科尔特弗朗西斯库斯·范德马斯特马尔特伊恩·德容

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

朱进桂

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-05-11	授权	授权
2008-05-21	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-03-26	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻设备、校准方法和器件制造方法 [P].

J·G·C·坦佩拉斯 ;

G·C·J·霍夫曼斯 ;

R·奥斯特霍尔特 ;

J·豪希尔德 ;

H·E·卡图 .

中国专利 :CN101071279B ,2007-11-14

[2]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·J·沃奥尔戴尔冬克 ;

M·W·J·E·威吉克曼斯 .

中国专利 :CN110268332A ,2019-09-20

[3]

光刻设备和器件制造方法 [P].

F·G·C·比恩 ;

A·J·登博夫 ;

R·J·F·范哈伦 ;

P·A·J·廷尼曼斯 ;

A·雅玛 ;

I·A·莱利娜 ;

E·M·休瑟博斯 ;

H·E·切克利 ;

柳星兰 ;

L·J·P·维尔希斯 ;

V·E·卡拉多 ;

L·P·范迪克 .

中国专利 :CN107850862B ,2018-03-27

[4]

光刻设备和器件制造方法 [P].

F·G·C·比恩 ;

E·M·休瑟博斯 .

中国专利 :CN107850861B ,2018-03-27

[5]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约翰内斯·昂伍李 ;

彼得·德亚格尔 ;

埃尔温·范茨韦特 .

中国专利 :CN102770810A ,2012-11-07

[6]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·W·J·E·维杰克曼斯 ;

E·A·F·范德帕施 ;

C·A·霍根达姆 ;

B·A·J·勒提库斯 .

中国专利 :CN107407889A ,2017-11-28

[7]

光刻设备和器件制造方法 [P].

T·哈德曼 .

中国专利 :CN101930183B ,2010-12-29

[8]

光刻设备和器件制造方法 [P].

E·A·F·范德帕斯卡 ;

E·J·M·尤森 ;

E·R·鲁普斯卓 .

中国专利 :CN102072742B ,2011-05-25

[9]

光刻设备和校准方法及器件制造方法 [P].

J·J·M·巴塞曼斯 ;

A·J·布里克 .

中国专利 :CN1573560A ,2005-02-02

[10]

光刻簇、光刻设备和器件制造方法 [P].

I·采马 ;

E·B·凯蒂 ;

J·D·康妮 .

中国专利 :CN111316170A ,2020-06-19

← 1 2 3 4 5 →