光刻设备和校准方法及器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410047658.4

申请日：

2004-05-27

公开(公告)号：

CN1573560A

公开(公告)日：

2005-02-02

发明(设计)人：

J·J·M·巴塞曼斯 A·J·布里克

申请人：

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L2100

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

苏娟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-05-13	授权	授权
2005-02-02	公开	公开
2006-03-08	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

光刻设备、校准方法和器件制造方法 [P].

J·G·C·坦佩拉斯 ;

G·C·J·霍夫曼斯 ;

R·奥斯特霍尔特 ;

J·豪希尔德 ;

H·E·卡图 .

中国专利 :CN101071279B ,2007-11-14

[2]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·J·登鲍埃夫 .

中国专利 :CN102193327B ,2011-09-21

[3]

光刻设备和器件制造方法 [P].

B·范霍夫 ;

J·科塔尔 .

中国专利 :CN108369390B ,2018-08-03

[4]

光刻设备、校准光刻设备的方法和器件制造方法 [P].

科恩·雅各布斯·约翰尼斯·玛利亚·扎尔 ;

约斯特·耶罗恩·奥藤斯 ;

尤多库斯·玛丽·多米尼克斯·斯图尔德拉伊尔 ;

安东尼厄斯·约翰尼斯·德科尔特 ;

弗朗西斯库斯·范德马斯特 ;

马尔特伊恩·德容 .

中国专利 :CN101149569B ,2008-03-26

[5]

光刻设备和器件制造方法 [P].

埃瑞克·派卓斯·伯曼 ;

汤姆斯·约瑟夫斯·玛丽亚·卡斯腾米勒 ;

约翰尼斯·威尔荷尔姆斯·玛丽亚·科尼利斯·蒂尤乌森 ;

贝尔雷切·莫爱斯特 ;

马克·安东尼斯·玛丽亚·哈斯特 .

中国专利 :CN101180582B ,2008-05-14

[6]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·J·沃奥尔戴尔冬克 ;

M·W·J·E·威吉克曼斯 .

中国专利 :CN110268332A ,2019-09-20

[7]

光刻设备和器件制造方法 [P].

J·J·奥坦斯 ;

M·E·J·伯恩曼 ;

T·J·M·卡斯坦米勒 ;

A·B·祖尼克 .

中国专利 :CN1971430A ,2007-05-30

[8]

光刻设备和器件制造方法 [P].

W·P·范德兰特 .

中国专利 :CN102193329A ,2011-09-21

[9]

光刻设备和器件制造方法 [P].

埃多·赫尔斯伯斯 .

中国专利 :CN104769502A ,2015-07-08

[10]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·H·J·A·马登斯 ;

P·J·克拉莫尔 .

中国专利 :CN101968608B ,2011-02-09

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