光刻设备和器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680013461.X

申请日：

2016-01-26

公开(公告)号：

CN107407889A

公开(公告)日：

2017-11-28

发明(设计)人：

H·巴特勒 M·W·J·E·维杰克曼斯 E·A·F·范德帕施 C·A·霍根达姆 B·A·J·勒提库斯

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

王茂华;张宁

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-12-22	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20160126
2017-11-28	公开	公开
2019-04-12	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·J·沃奥尔戴尔冬克 ;

M·W·J·E·威吉克曼斯 .

中国专利 :CN110268332A ,2019-09-20

[2]

光刻设备和器件制造方法 [P].

T·哈德曼 .

中国专利 :CN101930183B ,2010-12-29

[3]

光刻设备和器件制造方法 [P].

M·W·M·范德维基斯特 ;

汉斯·巴特勒 ;

E·R·鲁普斯卓 ;

伯哈德·古普特 ;

M·H·H·奥德尼惠斯 .

中国专利 :CN102566308A ,2012-07-11

[4]

光刻设备和器件制造方法 [P].

E·A·F·范德帕斯卡 ;

E·J·M·尤森 ;

E·R·鲁普斯卓 .

中国专利 :CN102072742B ,2011-05-25

[5]

光刻设备和器件制造方法 [P].

F·G·C·比恩 ;

E·M·休瑟博斯 .

中国专利 :CN107850861B ,2018-03-27

[6]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约翰内斯·昂伍李 ;

彼得·德亚格尔 ;

埃尔温·范茨韦特 .

中国专利 :CN102770810A ,2012-11-07

[7]

光刻装置和器件制造方法 [P].

E·R·卢普斯特拉 ;

E·A·F·范德帕施 .

中国专利 :CN101038442A ,2007-09-19

[8]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约瑟夫·玛丽亚·芬德斯 .

中国专利 :CN101598902B ,2009-12-09

[9]

光刻设备和器件制造方法 [P].

R·T·P·考姆彭 ;

M·M·P·A·沃梅尤恩 ;

A·B·杰尤恩克 ;

E·R·鲁普斯卓 ;

J·J·奥腾斯 ;

P·斯密特斯 ;

H·J·M·凡阿毕伦 ;

A·A·梅尤恩迪杰克斯 ;

M·霍本 ;

R·W·A·H·理纳尔斯 .

中国专利 :CN101713929A ,2010-05-26

[10]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·J·布里克 ;

J·J·M·巴塞曼斯 ;

M·M·T·M·迪伊里奇斯 ;

C·瓦格纳 ;

L·赖齐科夫 ;

S·Y·斯米诺夫 ;

K·Z·特鲁斯特 .

中国专利 :CN101598904B ,2009-12-09

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