光刻设备和器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110442480.3

申请日：

2011-12-21

公开(公告)号：

CN102566308A

公开(公告)日：

2012-07-11

发明(设计)人：

M·W·M·范德维基斯特汉斯·巴特勒 E·R·鲁普斯卓伯哈德·古普特 M·H·H·奥德尼惠斯

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴敬莲

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-07-11	公开	公开
2012-09-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101324741619 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011104424803 申请日:20111221
2015-09-02	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·W·J·E·维杰克曼斯 ;

E·A·F·范德帕施 ;

C·A·霍根达姆 ;

B·A·J·勒提库斯 .

中国专利 :CN107407889A ,2017-11-28

[2]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约瑟夫·玛丽亚·芬德斯 .

中国专利 :CN101598902B ,2009-12-09

[3]

光刻设备和器件制造方法 [P].

R·T·P·考姆彭 ;

M·M·P·A·沃梅尤恩 ;

A·B·杰尤恩克 ;

E·R·鲁普斯卓 ;

J·J·奥腾斯 ;

P·斯密特斯 ;

H·J·M·凡阿毕伦 ;

A·A·梅尤恩迪杰克斯 ;

M·霍本 ;

R·W·A·H·理纳尔斯 .

中国专利 :CN101713929A ,2010-05-26

[4]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·J·布里克 ;

J·J·M·巴塞曼斯 ;

M·M·T·M·迪伊里奇斯 ;

C·瓦格纳 ;

L·赖齐科夫 ;

S·Y·斯米诺夫 ;

K·Z·特鲁斯特 .

中国专利 :CN101598904B ,2009-12-09

[5]

光刻设备和器件制造方法 [P].

埃尔温·范茨韦特 ;

彼得·德亚格尔 ;

约翰内斯·昂伍李 ;

汉瑞克·德曼 .

中国专利 :CN103238113A ,2013-08-07

[6]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·J·沃奥尔戴尔冬克 ;

M·W·J·E·威吉克曼斯 .

中国专利 :CN110268332A ,2019-09-20

[7]

光刻设备和器件制造方法 [P].

J·J·奥坦斯 ;

M·E·J·伯恩曼 ;

T·J·M·卡斯坦米勒 ;

A·B·祖尼克 .

中国专利 :CN1971430A ,2007-05-30

[8]

器件制造方法和光刻设备 [P].

L·C·德温特 ;

J·M·芬德尔斯 .

中国专利 :CN101866117B ,2010-10-20

[9]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·K·尼恩黑斯 ;

M·A·W·崔帕斯 ;

L·M·莱瓦西尔 ;

简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 ;

Y·J·G·范德维基沃尔 ;

O·V·沃兹纳 ;

F·J·J·詹森 ;

D·M·H·菲利普斯 ;

M·A·C·马兰达 ;

O·加拉克季奥诺夫 ;

L·J·A·凡鲍克霍文 ;

N·坦凯特 ;

M·兰詹 ;

A·P·瑞吉普玛 ;

K·巴尔 ;

R·W·A·H·施密茨 ;

A·L·C·勒鲁 .

中国专利 :CN102681351A ,2012-09-19

[10]

光刻设备和器件制造方法 [P].

T·P·M·卡迪 ;

J·H·W·贾科布斯 ;

N·坦卡特 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

A·L·H·J·范米尔 ;

J·J·S·M·梅坦斯 ;

C·G·M·德莫 ;

M·J·E·H·米特詹斯 ;

A·J·范德内特 ;

J·J·奥坦斯 ;

J·A·夸伊达克斯 ;

M·E·鲁曼-休斯肯 ;

M·K·斯塔温加 ;

P·A·J·廷内曼斯 ;

M·C·M·维哈根 ;

J·J·L·H·维斯帕 ;

F·E·德荣格 ;

K·戈尔曼 ;

B·门奇奇科夫 ;

H·博姆 ;

S·尼蒂亚诺夫 ;

R·莫尔曼 ;

M·F·P·斯米特斯 ;

B·L·P·小恩德马克 ;

F·J·J·詹斯森 ;

M·里伊彭 .

中国专利 :CN101923290B ,2010-12-22

← 1 2 3 4 5 →