光刻设备和器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910132571.X

申请日：

2009-04-07

公开(公告)号：

CN101556438B

公开(公告)日：

2009-10-14

发明(设计)人：

哈利·西维尔约瑟夫·帕卓斯·亨瑞克瑞·本叔普

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王新华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-10-14	公开	公开
2014-04-16	授权	授权
2009-12-09	实质审查的生效	实质审查的生效
2017-05-24	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101722568078 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL200910132571X 申请日:20090407 授权公告日:20140416 终止日期:20160407

共 50 条

[1]

光刻设备和器件制造方法 [P].

R·T·P·考姆彭 ;

M·M·P·A·沃梅尤恩 ;

A·B·杰尤恩克 ;

E·R·鲁普斯卓 ;

J·J·奥腾斯 ;

P·斯密特斯 ;

H·J·M·凡阿毕伦 ;

A·A·梅尤恩迪杰克斯 ;

M·霍本 ;

R·W·A·H·理纳尔斯 .

中国专利 :CN101713929A ,2010-05-26

[2]

光刻设备和器件制造方法 [P].

F·G·C·比恩 ;

E·M·休瑟博斯 .

中国专利 :CN107850861B ,2018-03-27

[3]

光刻设备和器件制造方法 [P].

J·J·库特 ;

D·F·库普 .

中国专利 :CN101634812A ,2010-01-27

[4]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约翰尼思·欧恩伍里 ;

德克-詹·毕杰沃伊特 .

中国专利 :CN101183223B ,2008-05-21

[5]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·J·布里克 ;

A·L·H·J·范米尔 .

中国专利 :CN101765811A ,2010-06-30

[6]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约瑟夫·玛丽亚·芬德斯 .

中国专利 :CN101598902B ,2009-12-09

[7]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·J·布里克 ;

J·J·M·巴塞曼斯 ;

M·M·T·M·迪伊里奇斯 ;

C·瓦格纳 ;

L·赖齐科夫 ;

S·Y·斯米诺夫 ;

K·Z·特鲁斯特 .

中国专利 :CN101598904B ,2009-12-09

[8]

光刻设备和器件制造方法 [P].

埃尔温·范茨韦特 ;

彼得·德亚格尔 ;

约翰内斯·昂伍李 ;

汉瑞克·德曼 .

中国专利 :CN103238113A ,2013-08-07

[9]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·J·沃奥尔戴尔冬克 ;

M·W·J·E·威吉克曼斯 .

中国专利 :CN110268332A ,2019-09-20

[10]

光刻设备和器件制造方法 [P].

J·J·奥坦斯 ;

M·E·J·伯恩曼 ;

T·J·M·卡斯坦米勒 ;

A·B·祖尼克 .

中国专利 :CN1971430A ,2007-05-30

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