光刻设备和器件制造方法以及测量系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810166156.1

申请日：

2004-10-21

公开(公告)号：

CN101398634B

公开(公告)日：

2009-04-01

发明(设计)人：

M·H·M·比姆斯 E·A·F·范德帕斯奇

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L2102

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-04-01	公开	公开
2012-01-04	授权	授权
2019-10-18	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20041021 授权公告日:20120104 终止日期:20181021
2009-05-27	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[41]

光刻设备和器件制造方法 [P].

埃尔温·范茨韦特 ;

彼得·德亚格尔 ;

约翰内斯·昂伍李 ;

埃里克·弗瑞特茨 .

中国专利 :CN102822749B ,2012-12-12

[42]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·J·布里克 ;

A·L·H·J·范米尔 .

中国专利 :CN101765811A ,2010-06-30

[43]

光刻设备和器件制造方法 [P].

P·P·J·伯克文斯 ;

R·F·德格拉夫 ;

P·M·M·里伯艾格特斯 ;

R·范德汉姆 ;

W·F·J·西蒙斯 ;

D·J·M·迪艾克斯 ;

F·J·J·杰森 ;

P·W·斯考蒂斯 ;

G-J·G·J·T·布兰德斯 ;

K·斯蒂芬斯 ;

H·H·A·兰姆彭斯 ;

M·A·K·范力洛普 ;

C·德麦特森艾尔 ;

M·A·C·马兰达 ;

P·J·W·斯普鲁伊藤伯格 ;

J·J·A-M·沃斯特拉艾斯 .

中国专利 :CN102063023B ,2011-05-18

[44]

光刻设备和器件制造方法 [P].

P·P·J·伯克文斯 ;

R·F·德格拉夫 ;

P·M·M·里伯艾格特斯 ;

R·范德汉姆 ;

W·F·J·西蒙斯 ;

D·J·M·迪艾克斯 ;

F·J·J·杰森 ;

P·W·斯考蒂斯 ;

G-J·G·J·T·布兰德斯 ;

K·斯蒂芬斯 ;

H·H·A·兰姆彭斯 ;

M·A·K·范力洛普 ;

C·德麦特森艾尔 ;

M·A·C·马兰达 ;

P·J·W·斯普鲁伊藤伯格 ;

J·J·A-M·沃斯特拉艾斯 .

中国专利 :CN101446776B ,2009-06-03

[45]

光刻设备和器件制造方法 [P].

K·D·范德马斯特 ;

K·Z·特鲁斯特 .

中国专利 :CN1790169A ,2006-06-21

[46]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·J·登勃夫 ;

L·夸迪伊 ;

D·萨里 .

中国专利 :CN102193330A ,2011-09-21

[47]

光刻设备和器件制造方法 [P].

G·纳齐博格鲁 ;

F·J·J·范鲍克斯台尔 ;

T·P·H·沃马丹 ;

J·S·C·维斯特尔拉肯 ;

J·P·科洛斯 .

中国专利 :CN106537256B ,2017-03-22

[48]

器件制造方法和光刻设备 [P].

马库斯·亚得里亚内斯·范德柯霍夫 ;

默罕默德·阿克塞 ;

马默·欧奥斯达得 ;

阿塞斯·奥斯格瑞 .

中国专利 :CN101261442B ,2008-09-10

[49]

光刻设备和器件制造方法 [P].

哈利·西维尔 ;

约瑟夫·帕卓斯·亨瑞克瑞·本叔普 .

中国专利 :CN101556438B ,2009-10-14

[50]

光刻设备和器件制造方法 [P].

M·贝克尔斯 ;

M·A·范德柯克霍夫 ;

S·兰德柯尔 ;

W·J·P·M·马阿斯 ;

J·P·J·布鲁依杰斯腾斯 ;

I·A·J·托马斯 ;

F·J·J·詹森 ;

B·M·范奥尔勒 .

中国专利 :CN101482701A ,2009-07-15

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