一种无掩模光刻系统及其对应的光刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111059163.3

申请日：

2021-09-10

公开(公告)号：

CN113721429A

公开(公告)日：

2021-11-30

发明(设计)人：

邱志勇常朔

申请人：

申请人地址：

116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

大连理工大学专利中心 21200

代理人：

李晓亮

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-11-30	公开	公开
2021-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20210910

共 50 条

[1]

无掩模光刻系统及其光刻方法 [P].

张鹏鹏 ;

吴震 ;

张琼 ;

程攀攀 ;

朱旭杰 ;

范长江 .

中国专利 :CN118363277A ,2024-07-19

[2]

无掩模光刻系统及其光刻方法 [P].

张鹏鹏 ;

吴震 ;

张琼 ;

程攀攀 ;

朱旭杰 ;

范长江 .

中国专利 :CN118363277B ,2024-12-31

[3]

无掩模光刻方法和无掩模光刻设备 [P].

陈晓西 ;

徐律涵 ;

陈松泽 ;

叶茂 .

中国专利 :CN115453823A ,2022-12-09

[4]

一种无掩模光刻系统 [P].

阮立锋 ;

杨三 ;

汪孝军 .

中国专利 :CN207965474U ,2018-10-12

[5]

一种无掩模光刻系统及其曝光方法 [P].

阮立锋 ;

杨三 ;

汪孝军 .

中国专利 :CN108303858A ,2018-07-20

[6]

一种无掩模光刻对准系统 [P].

马平 ;

李艳丽 ;

陈铭勇 ;

陈磊 ;

胡陶 .

中国专利 :CN102193339A ,2011-09-21

[7]

无掩模光刻的剥离方法 [P].

王宏钧 ;

林子钦 ;

郑年富 ;

陈政宏 ;

黄文俊 ;

刘如淦 .

中国专利 :CN102983068B ,2013-03-20

[8]

用于无掩模光刻的方法和系统 [P].

E·J·范沃特 .

中国专利 :CN115039030A ,2022-09-09

[9]

一种双光束无掩模光刻系统 [P].

陈冠楠 ;

梅文辉 .

中国专利 :CN112987506B ,2021-06-18

[10]

用于无掩模光刻的动态补偿系统 [P].

A·S·赖弗斯 ;

T·J·特雷威尔 ;

R·H·卡夫尼 ;

J·T·斯图普斯 ;

J·M·科布 .

中国专利 :CN101416113A ,2009-04-22

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