一种双光束无掩模光刻系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110209817.X

申请日：

2021-02-24

公开(公告)号：

CN112987506B

公开(公告)日：

2021-06-18

发明(设计)人：

陈冠楠梅文辉

申请人：

申请人地址：

528437 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11346

代理人：

石辉;赵立军

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-06-18	公开	公开
2022-04-12	授权	授权
2021-07-06	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20210224

共 50 条

[1]

一种无掩模光刻系统 [P].

阮立锋 ;

杨三 ;

汪孝军 .

中国专利 :CN207965474U ,2018-10-12

[2]

无掩模光刻系统及其光刻方法 [P].

张鹏鹏 ;

吴震 ;

张琼 ;

程攀攀 ;

朱旭杰 ;

范长江 .

中国专利 :CN118363277A ,2024-07-19

[3]

无掩模光刻方法和无掩模光刻设备 [P].

陈晓西 ;

徐律涵 ;

陈松泽 ;

叶茂 .

中国专利 :CN115453823A ,2022-12-09

[4]

无掩模光刻系统及其光刻方法 [P].

张鹏鹏 ;

吴震 ;

张琼 ;

程攀攀 ;

朱旭杰 ;

范长江 .

中国专利 :CN118363277B ,2024-12-31

[5]

一种无掩模光刻对准系统 [P].

马平 ;

李艳丽 ;

陈铭勇 ;

陈磊 ;

胡陶 .

中国专利 :CN102193339A ,2011-09-21

[6]

基于纳米透镜的无掩模光刻系统 [P].

阮巍 .

中国专利 :CN101470346A ,2009-07-01

[7]

一种无掩模光刻系统及其对应的光刻方法 [P].

邱志勇 ;

常朔 .

中国专利 :CN113721429A ,2021-11-30

[8]

一种合作吸收双光束超分辨光刻系统及方法 [P].

甘棕松 ;

刘紫玉 ;

王端 .

中国专利 :CN113156773B ,2024-02-09

[9]

一种合作吸收双光束超分辨光刻系统及方法 [P].

甘棕松 ;

刘紫玉 ;

王端 .

中国专利 :CN113156773A ,2021-07-23

[10]

一种无掩模光刻系统及其曝光方法 [P].

阮立锋 ;

杨三 ;

汪孝军 .

中国专利 :CN108303858A ,2018-07-20

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