无掩模曝光设备及其信号回馈控制方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310347788.9

申请日：

2013-08-09

公开(公告)号：

CN104345579A

公开(公告)日：

2015-02-11

发明(设计)人：

徐文王帆

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-06-27	授权	授权
2015-03-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101601520917 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2013103477889 申请日:20130809
2015-02-11	公开	公开
2017-08-11	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101756995689 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2013103477889 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市浦东新区张东路1525号变更后:201203 上海市浦东新区张东路1525号

共 50 条

[1]

无掩模曝光系统及无掩模曝光方法 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN121028467A ,2025-11-28

[2]

无掩模曝光装置 [P].

千田丽誉 .

中国专利 :CN202306138U ,2012-07-04

[3]

一种无掩模光刻系统及其曝光方法 [P].

阮立锋 ;

杨三 ;

汪孝军 .

中国专利 :CN108303858A ,2018-07-20

[4]

无掩模曝光系统 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN222506743U ,2025-02-18

[5]

一种无掩模光刻技术的曝光方法 [P].

庞微 .

中国专利 :CN101799635A ,2010-08-11

[6]

掩模板及其制备方法、曝光设备 [P].

王曼 .

中国专利 :CN104849966A ,2015-08-19

[7]

无掩模曝光装置和方法以及半导体设备的制造方法 [P].

金义锡 ;

朴相玄 ;

张宰荣 .

中国专利 :CN110780538A ,2020-02-11

[8]

掩模板及其使用方法、曝光设备 [P].

马国靖 ;

徐长健 ;

任锦宇 .

中国专利 :CN108169998B ,2018-06-15

[9]

曝光掩模、曝光设备和用于校准曝光设备的方法 [P].

H.阿斯曼 ;

M.丹克尔曼 ;

U.温克勒 .

中国专利 :CN107402497A ,2017-11-28

[10]

曝光掩模及其生产方法和曝光方法 [P].

小泽谦 .

中国专利 :CN100587593C ,2005-11-16

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