掩模板及其使用方法、曝光设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810004145.7

申请日：

2018-01-03

公开(公告)号：

CN108169998B

公开(公告)日：

2018-06-15

发明(设计)人：

马国靖徐长健任锦宇

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

IPC主分类号：

G03F154

IPC分类号：

G02F11339

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

刘伟;张博

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-07-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/54 申请日:20180103
2018-06-15	公开	公开
2021-01-08	授权	授权

共 50 条

[1]

掩模板及其制备方法、曝光设备 [P].

王曼 .

中国专利 :CN104849966A ,2015-08-19

[2]

掩模板、曝光设备及掩模板的制造方法 [P].

赵立星 ;

韩旭 ;

王胜广 .

中国专利 :CN108333864A ,2018-07-27

[3]

一种掩模板、曝光方法和曝光设备 [P].

马群 ;

张琨鹏 .

中国专利 :CN103885296B ,2014-06-25

[4]

掩模板、曝光系统和曝光方法 [P].

陈珍霞 ;

李凡 ;

姜妮 .

中国专利 :CN103034046A ,2013-04-10

[5]

掩模板、曝光设备及紫外掩模基板的制备方法 [P].

刘正 ;

郭总杰 ;

张小祥 ;

张治超 .

中国专利 :CN104281014A ,2015-01-14

[6]

一种掩模板框架及其使用方法和掩模装置 [P].

戚海平 .

中国专利 :CN108611595A ,2018-10-02

[7]

掩模板、曝光设备最佳焦距的监控方法 [P].

谭露璐 ;

赵新民 ;

金乐群 ;

周孟兴 .

中国专利 :CN103076715A ,2013-05-01

[8]

精细掩模板及其制备方法 [P].

王灿 ;

陈小川 ;

玄明花 ;

张粲 ;

岳晗 ;

杨明 ;

肖丽 .

中国专利 :CN108277454A ,2018-07-13

[9]

曝光掩模、曝光设备和用于校准曝光设备的方法 [P].

H.阿斯曼 ;

M.丹克尔曼 ;

U.温克勒 .

中国专利 :CN107402497A ,2017-11-28

[10]

曝光掩模及其生产方法和曝光方法 [P].

小泽谦 .

中国专利 :CN100587593C ,2005-11-16

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