曝光掩模及其生产方法和曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480000081.X

申请日：

2004-01-28

公开(公告)号：

CN100587593C

公开(公告)日：

2005-11-16

发明(设计)人：

小泽谦

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F108

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

陶凤波;侯宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-11-16	公开	公开
2006-01-11	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-02-03	授权	授权
2015-04-01	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101603733132 IPC(主分类):G03F 1/08 专利号:ZL200480000081X 申请日:20040128 授权公告日:20100203 终止日期:20140128

共 50 条

[1]

曝光掩模、曝光设备和用于校准曝光设备的方法 [P].

H.阿斯曼 ;

M.丹克尔曼 ;

U.温克勒 .

中国专利 :CN107402497A ,2017-11-28

[2]

一种掩模板、曝光方法和曝光设备 [P].

马群 ;

张琨鹏 .

中国专利 :CN103885296B ,2014-06-25

[3]

掩模板及其制备方法、曝光设备 [P].

王曼 .

中国专利 :CN104849966A ,2015-08-19

[4]

曝光设备和曝光方法 [P].

王灿 ;

于剑伟 .

中国专利 :CN103309172A ,2013-09-18

[5]

曝光方法和曝光设备 [P].

手达郎 .

中国专利 :CN1151535A ,1997-06-11

[6]

曝光设备和曝光方法 [P].

冈崎洋二 ;

石川弘美 .

中国专利 :CN101142534A ,2008-03-12

[7]

曝光设备和曝光方法 [P].

钱俊 ;

翟思洪 .

中国专利 :CN107966882A ,2018-04-27

[8]

掩模曝光用紫外曝光装置 [P].

胡斌 ;

莫大洪 ;

原保平 ;

于天来 ;

王培新 .

中国专利 :CN213750656U ,2021-07-20

[9]

用于曝光的掩模版、曝光方法以及半导体晶片的生产方法 [P].

清水宏信 .

中国专利 :CN103019039A ,2013-04-03

[10]

曝光对准方法和曝光设备 [P].

山中英一郎 .

中国专利 :CN101587307A ,2009-11-25

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